產(chǎn)品詳情
光刻包括兩種基本的工藝類型:負性光刻和正性光刻。harmonic旋轉(zhuǎn)伺服諧波SHG-25-120-2UJ負性光刻把與掩模版上圖形相反的圖形復(fù)制到硅片表面。正性光刻把與掩模版上相同的圖形復(fù)制到硅片上。這兩種基本工藝的主要區(qū)別在于所用光刻膠的種類不同。光刻工藝過程包括8個基本步驟:氣相成底模、旋轉(zhuǎn)涂膠、軟烘、對準和曝光、曝光后烘培harmonic旋轉(zhuǎn)伺服諧波SHG-25-120-2UJ、顯影、堅膜烘培、顯影檢查。
如圖2.15所示,由硅片傳送系統(tǒng)將光刻工藝的基本設(shè)備串接在一起組成自動硅片光刻工藝加工系統(tǒng),實現(xiàn)硅片的自動化光刻加工。在光刻的基本工藝中對準和曝光是最為關(guān)鍵的工藝。對準和曝光通常在曝光harmonic旋轉(zhuǎn)伺服諧波SHG-25-120-2UJ機(通常也被稱作光刻機)上完成,