產(chǎn)品詳情
寒武紀(jì)技術(shù)系列真空等離子處理設(shè)備為單機(jī)式等離子表面處理設(shè)備，具有基材表面活化、去膠、清洗等效果，常用于貼附、粘膠、印刷、絲印、焊接等工序前預(yù)處理，主要應(yīng)用領(lǐng)域有半導(dǎo)體、LED、汽車(chē)制造、3C電子、電子線路板、生物醫(yī)療等。
如下圖為設(shè)備外形圖：
真空等離子清洗機(jī)原理：在密封腔室中，設(shè)置兩個(gè)電極形成電磁場(chǎng)（電容耦合放電），用真空泵實(shí)現(xiàn)一定程度的真空環(huán)境，隨著氣體越來(lái)越稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離越來(lái)越長(zhǎng)，受磁場(chǎng)作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體，同時(shí)會(huì)發(fā)生輝光。等離子體在電磁場(chǎng)空間內(nèi)運(yùn)動(dòng)，并轟擊被處理產(chǎn)品表面，伴隨一定的粒子件的結(jié)合和分解，從而達(dá)到產(chǎn)品表面處理、清洗、刻蝕等效果。
設(shè)備主要參數(shù):
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進(jìn)電需求 |
單相220V/AC,50-60Hz |
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控制操作 |
PLC+HMI |
三菱+威綸通 |
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射頻頻率 |
13.56MHz |
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射頻功率 |
Max 300W，600W，1000W |
選配 |
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真空泵 |
雙極旋片式真空油泵 |
可選配干泵 |
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真空泵抽速 |
≥60m³/h |
可選配 |
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真空腔體材質(zhì) |
不銹鋼316 |
陶瓷絕緣 |
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真空保壓 |
＜20Pa/min |
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工作真空度 |
5-100Pa可設(shè) |
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工藝氣體通道 |
標(biāo)配2路（氧氣和氬氣，其他氣體可定制） |
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氣體質(zhì)量流量計(jì) |
MFC：0-200sccm |
標(biāo)配 |
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設(shè)備極限真空度 |
≤3Pa |
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報(bào)警功能 |
工藝氣體氣壓報(bào)警、RF功率報(bào)警、壓縮空氣氣壓報(bào)警、工藝氣體流量報(bào)警、相序報(bào)警、真空泵異常報(bào)警等（屏幕顯示及三色燈聲光報(bào)警） |
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參數(shù)配方 |
可自行設(shè)置及保存調(diào)用參數(shù)配方，配方包含氣體流量、RF功率、工作真空度、等離子處理時(shí)間等參數(shù)，可保存配方≥50條 |
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監(jiān)控功能 |
實(shí)時(shí)RF功率、真空度、氣體流量、等離子處理時(shí)間等 |
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電極層數(shù) |
標(biāo)配五層電極，電極間距40mm |
可根據(jù)客戶需求定制 |
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有效處理層數(shù) |
標(biāo)配托盤(pán)4層 |
可定制 |
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有效處理面積 |
可定制 |
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設(shè)備治具 |
標(biāo)配鋼絲網(wǎng)托盤(pán)，可定制 |
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放電方式 |
CCP（電容耦合放電） |
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外部接氣 |
氣壓≥0.6MPa，外徑6mmPU軟管 |
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設(shè)備故障率 |
≤1% |
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設(shè)備功能
本設(shè)備為等離子表面處理設(shè)備，專注于各類產(chǎn)品基材表面的清潔、活化及表面張力的提升。設(shè)備具有完善的真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及人機(jī)界面、進(jìn)氣系統(tǒng)、等離子體發(fā)生系統(tǒng)、高真空密封腔室、鈑金框架等，可以實(shí)現(xiàn)高真空環(huán)境下的等離子體發(fā)生，精準(zhǔn)控制各類特種氣體進(jìn)量，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)多種活性基團(tuán)、粒子等對(duì)基材表面的精密處理。
設(shè)備一般運(yùn)行流程如下：真空等離子處理設(shè)備主要包括等離子發(fā)生器、真空泵、真空腔體，輸送管路等。在等離子體處理時(shí)，首先利用真空泵將真空腔體內(nèi)的空氣抽至設(shè)定的工作真空度，然后通過(guò)輸送管路將工作氣體輸入正空腔體內(nèi)部，當(dāng)氣體含量達(dá)到設(shè)定要求后等離子發(fā)生器啟動(dòng)，通過(guò)真空腔體內(nèi)部的上下正負(fù)電極之間放電將工作氣體電離從而產(chǎn)生Plasma，然后對(duì)樣品表面進(jìn)行處理，來(lái)達(dá)到改變表面活性和清潔等目的。
