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等離子表面活化設(shè)備江蘇寒武紀(jì)技術(shù)新能源封裝

數(shù)量(臺(tái)) 價(jià)格
50 210000.00元/臺(tái)
  • 最小起訂: 1臺(tái)
  • 發(fā)貨地址: 江蘇 蘇州市
  • 發(fā)布日期:2024-08-08
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寒武紀(jì)技術(shù)(蘇州)有限公司

實(shí)名認(rèn)證 企業(yè)認(rèn)證
  • 聯(lián)系人:周
  • 手機(jī):18112550219
  • 電話:-
  • 營業(yè)執(zhí)照:已審核 營業(yè)執(zhí)照
  • 經(jīng)營模式: 生產(chǎn)加工-私營獨(dú)資企業(yè)
  • 所在地區(qū):江蘇 南京市
  • 家家通積分:31分
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詳細(xì)參數(shù)
品牌寒武紀(jì)型號(hào)CPT-VAC-RF60
用途工業(yè)用加工定制
清洗方式表面活化電源射頻電源
功率600W/1000W工作頻率40Khz/13.56Hhz
外形尺寸960*840*1705MM重量約450KG
產(chǎn)地中國江蘇

產(chǎn)品詳情

寒武紀(jì)技術(shù)系列真空等離子處理設(shè)備為單機(jī)式等離子表面處理設(shè)備,具有基材表面活化、去膠、清洗等效果,常用于貼附、粘膠、印刷、絲印、焊接等工序前預(yù)處理,主要應(yīng)用領(lǐng)域有半導(dǎo)體、LED、汽車制造、3C電子、電子線路板、生物醫(yī)療等。

如下圖為設(shè)備外形圖:

 真空等離子清洗機(jī)原理:在密封腔室中,設(shè)置兩個(gè)電極形成電磁場(電容耦合放電),用真空泵實(shí)現(xiàn)一定程度的真空環(huán)境,隨著氣體越來越稀薄,分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離越來越長,受磁場作用,發(fā)生碰撞而形成等離子體,同時(shí)會(huì)發(fā)生輝光。等離子體在電磁場空間內(nèi)運(yùn)動(dòng),并轟擊被處理產(chǎn)品表面,伴隨一定的粒子件的結(jié)合和分解,從而達(dá)到產(chǎn)品表面處理、清洗、刻蝕等效果。

 

設(shè)備主要參數(shù):

進(jìn)電需求

單相220V/AC,50-60Hz

 

控制操作

PLC+HMI

三菱+威綸通

射頻頻率

13.56MHz

 

射頻功率

Max 300W,600W,1000W

選配

真空泵

雙極旋片式真空油泵

可選配干泵

真空泵抽速

≥60m³/h

可選配

真空腔體材質(zhì)

不銹鋼316

陶瓷絕緣

真空保壓

<20Pa/min

 

工作真空度

5-100Pa可設(shè)

 

工藝氣體通道

標(biāo)配2路(氧氣和氬氣,其他氣體可定制)

 

氣體質(zhì)量流量計(jì)

MFC:0-200sccm

標(biāo)配

設(shè)備極限真空度

≤3Pa

 

報(bào)警功能

工藝氣體氣壓報(bào)警、RF功率報(bào)警、壓縮空氣氣壓報(bào)警、工藝氣體流量報(bào)警、相序報(bào)警、真空泵異常報(bào)警等(屏幕顯示及三色燈聲光報(bào)警)

 

參數(shù)配方

可自行設(shè)置及保存調(diào)用參數(shù)配方,配方包含氣體流量、RF功率、工作真空度、等離子處理時(shí)間等參數(shù),可保存配方≥50條

 

監(jiān)控功能

實(shí)時(shí)RF功率、真空度、氣體流量、等離子處理時(shí)間等

 

電極層數(shù)

標(biāo)配五層電極,電極間距40mm

可根據(jù)客戶需求定制

有效處理層數(shù)

標(biāo)配托盤4層

可定制

有效處理面積

可定制

 

設(shè)備治具

標(biāo)配鋼絲網(wǎng)托盤,可定制

 

放電方式

CCP(電容耦合放電)

 

外部接氣

氣壓≥0.6MPa,外徑6mmPU軟管

 

設(shè)備故障率

≤1%

 

 

設(shè)備功能

本設(shè)備為等離子表面處理設(shè)備,專注于各類產(chǎn)品基材表面的清潔、活化及表面張力的提升。設(shè)備具有完善的真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及人機(jī)界面、進(jìn)氣系統(tǒng)、等離子體發(fā)生系統(tǒng)、高真空密封腔室、鈑金框架等,可以實(shí)現(xiàn)高真空環(huán)境下的等離子體發(fā)生,精準(zhǔn)控制各類特種氣體進(jìn)量,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)多種活性基團(tuán)、粒子等對(duì)基材表面的精密處理。

設(shè)備一般運(yùn)行流程如下:真空等離子處理設(shè)備主要包括等離子發(fā)生器、真空泵、真空腔體,輸送管路等。在等離子體處理時(shí),首先利用真空泵將真空腔體內(nèi)的空氣抽至設(shè)定的工作真空度,然后通過輸送管路將工作氣體輸入正空腔體內(nèi)部,當(dāng)氣體含量達(dá)到設(shè)定要求后等離子發(fā)生器啟動(dòng),通過真空腔體內(nèi)部的上下正負(fù)電極之間放電將工作氣體電離從而產(chǎn)生Plasma,然后對(duì)樣品表面進(jìn)行處理,來達(dá)到改變表面活性和清潔等目的。

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