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等向性蝕刻(isotropicetching)? 大部份的濕蝕刻液均是等向性,日本HD單晶硅諧波傳動SHF-40-80-2UH 換言之,對蝕刻接觸點之任何方向腐蝕速度并無明顯差異。
(2)非等向性蝕刻(anisotropicetching)? 先前題到之濕蝕刻日本HD單晶硅諧波傳動SHF-40-80-2UH「選擇性」觀念,是以不同材料之受蝕快慢程度來說明。然而自1970年代起,在諸如JournalofElectro-ChemicalSociety等期刊中,發(fā)表了許多有關堿性或有機溶液腐蝕單晶硅的文章,其特點是不同的硅晶面腐蝕速率相差極大,尤其是<111>方向,足足比<100>或是<110>方向的腐蝕速率小一到兩個數量級!因此,腐蝕速率最慢的晶面,日本HD單晶硅諧波傳動SHF-40-80-2UH往往便是腐蝕后留下的特定面。? 這部份將在體型微細加工時再詳述。