產(chǎn)品詳情
設(shè)備也跟著分為四類:
(a)高溫爐管,(b)微影機(jī)臺(tái),(c)化學(xué)清洗蝕刻臺(tái),(d)電漿真空腔日本HD無(wú)塵設(shè)備諧波CSF-17-80-2A-R 室。其中(a)~(c)機(jī)臺(tái)依序?qū)?yīng) (1)~(3)制程,而新近發(fā)展的第(d)項(xiàng)機(jī)臺(tái),則分別應(yīng)用于制程(1)與(3)。?由于坊間不乏介紹半導(dǎo)體制程及設(shè)備的中文書籍,故本文不刻意錦上添花,謹(jǐn)就筆者認(rèn)為較有趣的觀點(diǎn),日本HD無(wú)塵設(shè)備諧波CSF-17-80-2A-R 描繪一二!
(一)氧化(爐)(Oxidation)
對(duì)硅半導(dǎo)體而言,只要在高于或等于1050℃的爐管中,如圖2-3所示,通入氧氣或水汽,自然可以將硅晶的表面予以氧化,生長(zhǎng)所謂干氧層(dryz/gateoxide)或濕氧層(wet/fieldoxide)日本HD無(wú)塵設(shè)備諧波CSF-17-80-2A-R ,當(dāng)作電子組件電性絕緣或制程掩膜之用。氧化是半導(dǎo)體制程中,最干凈、單純的一種;這也是硅晶材料能夠取得優(yōu)勢(shì)的特性之一