| 集成光學(xué)發(fā)展初期,田炳耕曾對(duì)集成光學(xué)作了三條定義：（1）光波導(dǎo)能限制光束在其中傳播。（2）利用光波導(dǎo)可制成各種光波導(dǎo)器件;（3）將光波導(dǎo)和光波導(dǎo)器件集成起來可構(gòu)成有特定功能的集成光路。 集成光學(xué)在一開始就將光纖通信作為其主要應(yīng)用目標(biāo)之一。 集成光學(xué)器件伴隨著光纖通信的興起和發(fā)展已經(jīng)走過了幾十年。集成光學(xué)器件不僅成為光纖網(wǎng)絡(luò)的重要組成部分,而且也促使光纖通信容量爆炸性增長、光纖通信技術(shù)和產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展,加上集成光學(xué)器件技術(shù)的進(jìn)一步發(fā)展和成熟還將掀起光纖通信技術(shù)及其相關(guān)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的新高潮。 發(fā)展歷程 集成光學(xué)基于薄膜能夠傳輸光頻波段的電磁能的原理。故其誕生主要受微波工程和薄膜光學(xué)的影響。在1962年前,平面介質(zhì)波導(dǎo)已應(yīng)用于微波工程中,但直到1965年才由Anderson和他的研究小組把微波理論和光刻技術(shù)結(jié)合起來制作出應(yīng)用于紅外區(qū)域的薄膜波導(dǎo)和其它平面器件和光路。1969年,貝爾實(shí)驗(yàn)室的S.E Miller首次提出了“集成光學(xué)”（integrated optics）的概念,宣告了大力研究和發(fā)展光通信用的完善而可靠的薄膜技術(shù)的開始。 上世紀(jì)70年代初,研究人員對(duì)制作波導(dǎo)的材料和制作工藝作了大量的研究。此間,發(fā)光二極管（LED）、激光二極管（LD）、光纖的制造技術(shù)取得了很大進(jìn)展。光纖傳播損耗的降低加速了光纖通信系統(tǒng)的發(fā)展。70年代晚期,和光纖通信相關(guān)的技術(shù)進(jìn)一步成熟,企業(yè)和研究機(jī)構(gòu)開始集中發(fā)展光纖通信系統(tǒng);對(duì)集成光學(xué)的研究反而減少了,他們認(rèn)為集成光學(xué)器件的商品化在近期內(nèi)難以實(shí)現(xiàn)。80年代研究人員開始重新關(guān)注集成光學(xué)的發(fā)展,因?yàn)楣饫w通信系統(tǒng)中的分立元件較難準(zhǔn)直,且其性能又不夠穩(wěn)定。 平面光波導(dǎo)器件的分類 光波導(dǎo)是集成光學(xué)的重要基礎(chǔ)性部件,它能將光波束縛在光波長量級(jí)尺寸的介質(zhì)中。用集成光學(xué)工藝制成的各種平面光波導(dǎo)器件,有的還要在一定的位置上沉積電極,兩端接上電壓,用以控制在波導(dǎo)中傳輸?shù)墓獠ǖ南辔换驈?qiáng)度。然后,光波導(dǎo)再與光纖或光纖陣列耦合。激光信號(hào)在光波導(dǎo)中耦合、傳輸、調(diào)制。 光波導(dǎo)器件按其組成材料可分為四種基本類型：鈮酸鋰鍍鈦光波導(dǎo)、硅基二氧化硅光波導(dǎo)、InGaAsP/InP光波導(dǎo)和聚合物光波導(dǎo)。 LiNbO3晶體的電光、聲光及非線性光學(xué)系數(shù)較大,材料的化學(xué)性能穩(wěn)定。其晶體生長成本低且易長出大尺寸的單晶,適合制作各種調(diào)制、耦合和傳輸元件,但不能做光源和探測器。是集成光學(xué)最常用的晶體材料。 鈮酸鋰鍍鈦光波導(dǎo)的主要工藝是：首先在鈮酸鋰基體上用蒸發(fā)沉積或?yàn)R射沉積的方法鍍上鈦膜,然后進(jìn)行光刻,形成所需要的光波導(dǎo)圖形,再進(jìn)行擴(kuò)散,可以采用外擴(kuò)散、內(nèi)擴(kuò)散、質(zhì)子交換和離子注入等方法來實(shí)現(xiàn)。最后沉積上二氧化硅保護(hù)層,制成平面光波導(dǎo)。該波導(dǎo)的損耗一般為0.2-0.5dB/cm;調(diào)制器和開關(guān)的驅(qū)動(dòng)電壓一般為10V左右;一般的調(diào)制器帶寬為幾個(gè)GHz,采用行波電極的LiNbO3光波導(dǎo)調(diào)制器,帶寬已達(dá)50GHz以上。 現(xiàn)在對(duì)LiNbO3光波導(dǎo)器件的研究,主要是為了進(jìn)一步提高LiNbO3調(diào)制器的工作速率以及開發(fā)具有其它功能的LiNbO3器件和集成模塊,如Ti:Er:LiNbO3激光器、攙Er光波導(dǎo)放大器和LiNbO3光波導(dǎo)開關(guān)等。 硅基二氧化硅光波導(dǎo)是20世紀(jì)90年代發(fā)展起來的新技術(shù)。其制作需要沉積較厚的二氧化硅層,通過加入鍺等摻雜劑,或者是加入氮?dú)馍傻趸?可以對(duì)膜層的折射率進(jìn)行調(diào)整。還可以在氧化物中加入其它物質(zhì),如加入硼和磷即可生成硼磷硅酸鹽玻璃（BPSG）。 國外此技術(shù)已比較成熟。其制造工藝有：火焰水解法（FHD）、化學(xué)氣相淀積法（CVD,NEC公司開發(fā)）、等離子增強(qiáng)CVD法（FECVD,朗訊公司開發(fā)）、反應(yīng)離子蝕刻技術(shù)（RIE）、多孔硅氧化法和熔膠－凝膠法（Sol-gel）。該波導(dǎo)的損耗很小,約為0.02dB/cm。 基于磷化銦（InP）的InGaAsP/InP光波導(dǎo)可與InP基的有源與無源光器件及InP基微電子回路集成在同一基片上,但其與光纖的耦合損耗較大�！�
聚合物波導(dǎo)的熱光系數(shù)和電光系數(shù)都比較大,很適合于研制高速光波導(dǎo)開關(guān)、AWG等。 聚合物材料可淀積在任何半導(dǎo)體材料上,為制作電光調(diào)制器提供了方便。此外,由于聚合物的相對(duì)介電系數(shù)低,為制作高速寬帶行波結(jié)構(gòu)提供了方便。由于有機(jī)聚合物的制備工藝與半導(dǎo)體的相容,因而器件的制備非常簡單。德國HHI公司利用這種波導(dǎo)研制成功的AWG在25-65℃的波長漂移僅為±0.05nm。 需指出的是,在上述四種平面光波導(dǎo)器件中,除了LiNbO3平面光波導(dǎo)器件外,其余三種光波導(dǎo)器件目前都尚未成熟,仍處于研發(fā)階段。 光纖通信用之集成光學(xué)器件 目前,光纖通信中用得最多的集成光學(xué)器件主要有：光耦合器（Coupler、Splitter）、光調(diào)制器、光開關(guān)、可調(diào)諧光濾波器(OTF)等。 光耦合器 光耦合器是實(shí)現(xiàn)光信號(hào)分路/合路的功能器件,一般是對(duì)同一波長的光功率進(jìn)行分路和合路。用于光纖通信的耦合器分為：光纖熔錐型耦合器、微機(jī)電元件型(MEMS)耦合器和集成光波導(dǎo)型耦合器。這里介紹集成光波導(dǎo)型耦合器。 采用平面光波導(dǎo)技術(shù)能做成不同結(jié)構(gòu)與功能的集成光波導(dǎo)型耦合器,其主要工藝過程有：沉積、光刻、擴(kuò)散。圖1所示為最簡單的Y形（1×2）分支耦合器的基本結(jié)構(gòu)。
集成光波導(dǎo)耦合器 光調(diào)制器 a）LiNbO3光波導(dǎo)調(diào)制器 光纖通信系統(tǒng)的調(diào)制器主要是LiNbO3光波導(dǎo)調(diào)制器。LiNbO3光波導(dǎo)調(diào)制器是利用電光效應(yīng)對(duì)光波的相位、強(qiáng)度或偏振態(tài)進(jìn)行調(diào)制的器件。對(duì)高速系統(tǒng)而言,最常見的LiNbO3光調(diào)制器是Mach-Zehnder干涉儀（MZI）型行波電極強(qiáng)度光調(diào)制器,圖2是其結(jié)構(gòu)示意圖。這種調(diào)制器采用了MZI的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)和行波電極結(jié)構(gòu),不僅可獲得很高的工作速度,而且調(diào)制信號(hào)的頻率啁啾非常小。
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