一、化學(xué)鍍鎳工藝介紹

 最近幾年，我國光亮鍍鎳工藝、化學(xué)鍍鎳工藝的開發(fā)和應(yīng)用迅猛發(fā)展，是電鍍行業(yè)的熱門話題。其中重要的原因是我國制造業(yè)飛速發(fā)展，推動電鍍行業(yè)化學(xué)鍍鎳工藝的發(fā)展?；瘜W(xué)鍍鎳工藝在不斷更新和進(jìn)步，但與此同時，產(chǎn)生的廢水也越來越難處理，給環(huán)境帶來了嚴(yán)重污染。其中化學(xué)鍍鎳工藝會產(chǎn)生含次磷廢水，更是電鍍廢水處理的難題。

 化學(xué)鍍鎳工藝通常是在高溫(70～90C)下進(jìn)行操作，鎳的沉積速度較快，但是工藝控制困難，低溫化學(xué)鍍鎳與高溫化學(xué)鍍鎳的基礎(chǔ)鍍液大致相同，但由于溫度的降低，根據(jù)Arrhenius方程，鎳的沉積速度將大為降低，因此，低溫化學(xué)鍍鎳須在堿性條件下進(jìn)行，這是低溫化學(xué)鍍鎳的一個特點，目前，使用高溫酸性化學(xué)鍍鎳工藝較多，因此多數(shù)電鍍液多呈現(xiàn)弱酸性，相應(yīng)的產(chǎn)生的化學(xué)鍍鎳廢水也多為弱酸性。

 這種鍍鎳溶液中的主要成分如下：

 鎳鹽：提供電鍍層所需金屬離子。

 還原劑：還原金屬離子。目前多以采用次磷酸鈉為還原劑的化學(xué)鍍鎳工藝應(yīng)用最為普遍。但產(chǎn)生的電鍍廢水中會含有次磷廢水

 絡(luò)合劑：保持鍍液穩(wěn)定，能與鍍液中的鎳離子形成絡(luò)合物，控制可供反應(yīng)的游離鎳濃度，抑制亞磷酸鎳的沉淀。常用的絡(luò)合劑一般含有羥基、羧基或氨基，如醋酸、丁二酸、羥基乙酸、乙二胺等。
       由于化學(xué)鍍鎳工藝中使用了次亞磷酸鹽作為還原劑，因此化學(xué)鍍鎳廢水中會產(chǎn)生大量的含次磷廢水，此廢水難以處理，必須使用湛清自主研發(fā)的次亞磷去除劑。

 二、化學(xué)鍍鎳含次磷廢水處理

 根據(jù)次磷酸根的特性，次磷酸鹽的溶解度都較高，正常條件下，次磷酸很難與重金屬直接沉淀，而通過氧化技術(shù)的原理把次磷酸根氧化為正磷酸根的思路同樣無法使用，因為芬頓氧化效率有限，只能氧化一部分次磷酸根，廢水中仍然含有大量的次磷酸根離子無法去除。

 湛清環(huán)保的次亞磷去除劑HMC-P3是一種多相無機(jī)復(fù)合鹽，專門針對電鍍廢水中的次亞磷，采用均相共沉淀技術(shù)，次亞磷去除劑能夠直接與之結(jié)合形成沉淀，通過混凝絮凝，把次亞磷去除達(dá)標(biāo)。

 三、化學(xué)鍍鎳含次磷廢水處理工藝

 具體流程如下：

 1、取電鍍化學(xué)鎳次亞磷廢水

 2、調(diào)節(jié)廢水pH，加入次亞磷去除劑以及催化劑進(jìn)行反應(yīng)

 3、調(diào)節(jié)廢水pH，加入次亞磷絮凝劑進(jìn)行絮凝反應(yīng)

 4、過濾沉淀出水，測定磷含量

 根據(jù)以上步驟，結(jié)合使用湛清環(huán)保研發(fā)的藥劑——次亞磷去除劑P3，能將化學(xué)鍍鎳含次磷廢水處理達(dá)標(biāo)，其中總磷能處理到0.5mg/L以下。