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日本HD晶圓設(shè)備諧波SHD-20-100-2SH?

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第14年

上海浜田實(shí)業(yè)有限公司

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詳細(xì)參數(shù)
品牌HarmonicDrive型號SHD-20-100-2SH,
類型諧波減速器載荷狀態(tài)強(qiáng)沖擊載荷
傳動比級數(shù)雙級軸的相對位置立式加速器
傳動布置形式分流式加工定制是
樣品或現(xiàn)貨現(xiàn)貨齒面硬度軟齒面
布局形式擺線式用途變速機(jī)
輸入轉(zhuǎn)速1450rpm額定功率360kw
輸出轉(zhuǎn)速范圍50rpm許用扭矩691N.m
使用范圍機(jī)械設(shè)備減速比43
產(chǎn)地日本

產(chǎn)品詳情

拖住化學(xué)蒸氣分子；同時(shí)因硅芯片表面溫度高于邊界層外緣之蒸氣溫度日本HD晶圓設(shè)備諧波SHD-20-100-2SH，芯片將釋出熱量，來供給被拖住之化學(xué)蒸氣分子在芯片表面完成薄膜材質(zhì)解離析出之所需能量。所以基本上，化學(xué)氣相沉積就是大自然「輸送現(xiàn)象」(transportphenomena)的應(yīng)用。

常壓化學(xué)氣相沉積速度頗快，但成日本HD晶圓設(shè)備諧波SHD-20-100-2SH長薄膜的質(zhì)地較為松散。另外若晶圓不采水平擺放的方式(太費(fèi)空間)，薄膜之厚度均勻性(thicknessunibity)不佳。

1、 低壓化學(xué)氣相沉積(LowPressureCVD；LPCVD)

為進(jìn)行50片或更多晶圓之批次量產(chǎn)，爐管內(nèi)之晶圓勢必要垂直日本HD晶圓設(shè)備諧波SHD-20-100-2SH密集地豎放于晶舟上，這明顯衍生沉積薄膜之厚度均勻性問題；

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