產(chǎn)品詳情
氣體質(zhì)量流量計(jì)氣體流量控制MKS 1159B 通用型
目前所做的MFC的相關(guān)品牌和型號(hào)如下列出:MKSGE50A質(zhì)量流量控制器
UNIT、TYLAN、MKS、STEC、BROOKS、AREA; |
MKS電源EDGE210R40A-G12/660-210103-225CMLH-31-120S09 |
MFC-BF3/PH3
GRANVILLE-PHILLIPS/MKS390510-2-YG-T/355400-0-TE-T/355400-0-YE-M
AMAT1350-01173氣體控制器壓力控制器mks640B-29652/640A14312
MKS Type 640 Pressure Controller 640A21TW1VA2V-S new
貨物清單號(hào) # CONB-2509
這個(gè)MKS壓力控制器是全新的,工程剩余產(chǎn)品,性能和外觀都非常完美。如果您的設(shè)備上有類似產(chǎn)品需要進(jìn)行更新替換,請(qǐng)聯(lián)系我們購(gòu)買。
產(chǎn)品說明:
Model No: 640A21TW1VA2V-S
Range: 20 Torr
VCR connection, 15 pin interface
CE marked
Made in USA
拍前請(qǐng)聯(lián)系店主 普發(fā)真空計(jì)PKR251 英福康
產(chǎn)品簡(jiǎn)介:
瑞士INFICON PEG100潘寧真空計(jì),這款堅(jiān)固的潘寧冷陰極電離真空計(jì)可準(zhǔn)確測(cè)量 1 x 10-2 毫巴到低至 1 x 10-9 毫巴的高真空壓力。 還有現(xiàn)場(chǎng)總線可供選擇。
PEG100潘寧真空計(jì) 的詳細(xì)介紹
INFICON PEG100潘寧真空計(jì)提供可靠的高真空測(cè)量。堅(jiān)固耐用的潘寧冷陰極傳感器不會(huì)出現(xiàn)單絲燒毀的現(xiàn)象。 由于采用鈦陰極板且等離子點(diǎn)火后高電壓將會(huì)降低,潘寧真空計(jì)還可在濺射應(yīng)用環(huán)境下運(yùn)行。 現(xiàn)場(chǎng)總線選件以及對(duì)數(shù)模擬輸出信號(hào)允許使用 Profibus DP 或 DeviceNet 協(xié)議,將真空計(jì)輕松集成到真空系統(tǒng)中。
PEG100潘寧真空計(jì)益處:
-
測(cè)量范圍廣,從 1 x 10-9 至 1 x 10-2 毫巴(7.5 x 10-10 至 7.5 x 10-3 托)
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全金屬冷陰極傳感器(潘寧),帶陶瓷饋入裝置
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創(chuàng)新的電極幾何形狀提供***的點(diǎn)火屬性
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等離子點(diǎn)火后降低的高壓和鈦陰極板可減少污染危險(xiǎn),即使在有氬氣的濺射運(yùn)行中
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陽(yáng)極環(huán)和鈦陰極可輕松進(jìn)行清潔或更換
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***小化真空計(jì)附近的磁場(chǎng)強(qiáng)度
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用于電源接通和等離子體點(diǎn)火的 LED 指示器
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對(duì)數(shù)模擬輸出信號(hào)
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現(xiàn)場(chǎng)總線接口(Profibus DP、DeviceNet)允許使用網(wǎng)絡(luò)通信將真空計(jì)輕松集成到真空系統(tǒng)中
PEG100潘寧真空計(jì)典型應(yīng)用:
-
高真空壓力監(jiān)控
-
蒸發(fā)濺射系統(tǒng)
-
高真空范圍內(nèi)的一般真空測(cè)量和控制
PEG100潘寧真空計(jì)選型指南:
PEG100零件號(hào)說明351-000 351-002 351-003 351-004 351-005
真空計(jì) |
PEG100-P 規(guī)管 |
PEG100D 型真空計(jì) |
PEG100-D Penning Gauge; DN40CF-F |
PEG100-P 規(guī)管 |
備件
PEG100零件號(hào)說明351-490
陰極片 |
FOR: AMAT 200 mm Centura . Endura . RTP . HTF . HDP . MXP . SUPER E . DPS . WCVD .
mks640A-14312/640A-29747流量壓力計(jì)60/100psl現(xiàn)貨供應(yīng)
brooksinstrument VDM300維修與銷售lam796-055344R007
MKS質(zhì)量流量計(jì)1179A00423CR1BV氣體Ar 2000sccm
LAM796-055344-005水蒸汽輸送模塊brooksinstrument VDM300
27-126062-00 3310-01071 ?; 1350-01027 ?; 1350-01021 ?; 60-10006-00 275821 3310-01055 275185 27-126029-00 629B-15894
美國(guó)CTI-Cryogenics 、CVI、Austin,德國(guó)Leybold、日本Anelva、住友重工 (SHI、APD 、Daikin)、 ULVAC、Suzuki等公司低溫泵 冷凝泵。
提供GM及SV 冷凝泵 低溫泵 的配件。
下面是出售的部分冷泵及配件(還有很多配件沒有上傳,歡迎來電咨詢):
ON BOARD 8F CRYOPUMP AMAT ENDURA 8116143G001
CTI-TOR8
Cryo-Torr Interface 8135903G001
Granville-Phillips Vacuum Guage Controller NR
15K High Capacity Array
CTI Maintenance Kits
Helium Line AMAT 3400-01109 CTI 8043086G240
TC Gauge 8112105
Cryo-Torr Interface 8135903G001
mks TYPE670真空計(jì)校準(zhǔn)儀690傳感器
722C01TCD2FJ電子真空計(jì)MKS真空壓力計(jì) 1TORR 4VCR
brooksinstrument VDM300維修與銷售lam796-055344R007
MKS MFVC-29886 MKS MFVC-34785 MKS MFVC-32497 MKS VODMB-26565 LAM 797-004456R005 MKS390100-YG 275071 392100-YE MKS-226A-29571 AMAT0190-50856 0190-51152 MKS649A12T51CAMR 1179A01922CR1AV-K MKS GE50A-30351
BROOKS AUTOMATION控制器維修978-262-2900(165463)
MKS SENTRY 1510流量計(jì)AERA EPV100-AW
TEL設(shè)備流量計(jì)維修ckd tpr4-35-A100T-X0002
cooling
美國(guó)FIL-TECH 對(duì)流表CONVECTION GAUGES CVG101GA/101GB/1
mks真空計(jì)356004-YG-THORIBA VALVE全新原件0190-36237流量計(jì)
MKS390521-3-YH-T-0018GRANVILLE-PHillips 真空計(jì)AMAT氣體流量計(jì)0190-51152
Granville-Phillips 隔膜規(guī)390628-0-YE-T 390B6636
MKS 390628–0-YE MKS GRANVILLE-PHILLIPS gauge P/N:390628–0-YE-T 390628-0-YE-T 390B6636
LAM796-055344-005
特點(diǎn)
- 流量范圍:3 slpm (去離子水蒸汽)
- 具有超高流量精度的直接水蒸汽測(cè)量
- 能直接連接到廠房去離子水供應(yīng)系統(tǒng)
- 在較低溫度下可操作(非過熱狀態(tài))
- 沖刷和排水的優(yōu)化設(shè)計(jì)
- EtherCAT數(shù)字通訊
- Brooks Expert Support Tool (BEST)圖形用戶界面
優(yōu)勢(shì)
- 采用了成熟可靠的熱式質(zhì)量流量測(cè)量和控制技術(shù)
- 適用于各種FAB去離子水供水的壓力
- 接液件耐腐蝕性能增強(qiáng)
- 確保更清潔的操作
- 可匹配各種設(shè)備的模擬或數(shù)字通訊接口
- 直接用戶界面可增強(qiáng)數(shù)據(jù)收集或故障排查
應(yīng)用
- 硅材料半導(dǎo)體金屬刻蝕后段工藝
- 硅材料半導(dǎo)體金屬剝離工藝
- 在負(fù)大氣壓的環(huán)境中超高純加濕
mks360/370
AMAT AE PARAMOUNTRF generator0190-441-5
GRANVILLE PHILLIPS 390 Series Micro-Ion gauge ATM Module:
PN:390628-0-YE-T,
PN:390506-3-YE-T,
P
加熱元件的發(fā)熱越有效,需要對(duì)它們進(jìn)行的加熱就越少。Plansee 研發(fā)了一種能夠最大化熱輸出的涂層工藝。
深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司供應(yīng)半導(dǎo)體過濾器 半導(dǎo)體配件mks真空計(jì)流量計(jì) 等進(jìn)口控制器
供應(yīng)CTI低溫泵維修和銷售詳細(xì)介紹
CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機(jī)維修、銷售和技術(shù)咨詢8200/9600
CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機(jī)維修、銷售和技術(shù)咨詢。
OB8F:
OEM (CTI) Refurbished CTI Cryogenics Endura 8F Onboard Cryogenic Vacuum Pump.
. Utilized on AMAT Endura HP PVD Systems, OEM Refurbished to Like New Condition.
. Certificate of manufactures conbity attached.
. ConFlat Flange with Copper Gasket. In OEM Box
. CTI Part # 8116143G001 Serial # A06423485 AMAT Part # 0190-13371
8200: 8032559G001
美國(guó)CTI壓縮機(jī)維修9600: 8135900G001
MKS354005-YD-T
Granville-PHillips真空計(jì) 275529-EU
1.型號(hào):275529-EU
2 MKS390411-0-YE-T真空計(jì)GRANVILLE-PHILLIPS
3.非實(shí)價(jià),議價(jià)!英??嫡婵沼?jì)MKS354005-YD-T離子對(duì)撞壓力計(jì)MKS
INFICON BAG302 B-A 型熱陰極電離真空計(jì)(中高真空計(jì))
INFICON 單臺(tái) Bayard-Alpert 熱離子計(jì) BAG302 的測(cè)量范圍從 1.3 × 10-9 到 6.7×10-2 mbar(1 × 10-9 到 5 × 10-2 Torr)。緊湊型一體化熱離子計(jì)BAG302提供易于更換的雙燈絲傳感器,內(nèi)置OLED顯示屏,設(shè)定點(diǎn)繼電器和對(duì)數(shù)線性模擬輸出以及集成的RS485數(shù)字接口,可提高集成靈活性。這些功能與堅(jiān)固的設(shè)計(jì)相結(jié)合,使BAG302成為一種經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且可重復(fù)的過程,可作為自己的壓力測(cè)量?jī)x器的基礎(chǔ),并提供高價(jià)值/低擁有成本的選擇。
INFICON 的 BAG302 熱離子計(jì)是下面列出的 MKS/GP 部件號(hào)的直接直接替代品。 這還包括較舊的傳統(tǒng) MKS 354 微離子®模塊。
MKS系列 | 部件號(hào) | 顯示 | 單位 | 輸出 | 法蘭型 | 燈絲 | INFICON部件號(hào) |
355 微離子®
|
355400-0-碼 | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
355 微離子®
|
355400-0-葉-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
355 微離子® | 355400-0-YK-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
355 微離子® | 355400-0-YF-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
355 微離子® | 355400-0-YG-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
355 微離子®
|
355400-0-碼 | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
355 微離子®
|
355400-0-葉-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
355 微離子® | 355400-0-YK-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
355 微離子® | 355400-0-YF-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-052 |
355 微離子® | 355400-0-YG-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
355 微離子®
|
355400-0-碼 | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
355 微離子®
|
355400-0-葉-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
355 微離子® | 355400-0-YK-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
355 微離子® | 355400-0-YF-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
355 微離子® | 355400-0-YG-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
355 微離子®
|
355600-0-碼 | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
355 微離子®
|
355600-0-葉-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
355 微離子® | 355600-0-YK-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
355 微離子® | 355600-0-YF-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-052 |
355 微離子® | 355600-0-YG-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
355 微離子®
|
355600-0-碼 | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
355 微離子®
|
355600-0-葉-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
355 微離子® | 355600-0-YK-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
355 微離子® | 355600-0-YF-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
355 微離子® | 355600-0-YG-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
355 微離子®
|
355600-0-碼 | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
355 微離子®
|
355600-0-葉-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
355 微離子® | 355600-0-YK-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
355 微離子® | 355600-0-YF-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
355 微離子® | 355600-0-YG-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
355 微離子®
|
355410-0-碼 | 不 | 托 | RS485 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
355 微離子®
|
355410-0-葉-T | 不 | 托 | RS485 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
355 微離子® | 355410-0-YK-T | 不 | 托 | RS485 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
355 微離子® | 355410-0-YF-T | 不 | 托 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
355 微離子® | 355410-0-YG-T | 不 | 托 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354001-YD-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
354 微離子®
|
354001-YE-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 托 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
354 微離子® | 354001-YK-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
354 微離子® | 354001-YF-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
354 微離子® | 354001-YG-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
354 微離子®
|
354001-YD-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
354 微離子®
|
354001-YE-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
354 微離子® | 354001-YK-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
354 微離子® | 354001-YF-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
354 微離子® | 354001-YG-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
354 微離子®
|
354001-YD-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
354 微離子®
|
354001-YE-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
354 微離子® | 354001-YK-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
354 微離子® | 354001-YF-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
354 微離子® | 354001-YG-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
354 微離子®
|
354002-YD-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
354 微離子®
|
354002-YE-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
354 微離子® | 354002-YK-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
354 微離子® | 354002-YF-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
354 微離子® | 354002-YG-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
354 微離子®
|
354002-YD-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
354 微離子®
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354002-YE-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
354 微離子® | 354002-YK-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
354 微離子® | 354002-YF-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
354 微離子® | 354002-YG-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
354 微離子®
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354002-YD-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
354 微離子®
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354002-YE-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
354 微離子® | 354002-YK-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
354 微離子® | 354002-YF-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
354 微離子® | 354002-YG-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
354 微離子®
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354005-YD-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 托 | RS485 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
354 微離子®
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354005-YE-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 托 | RS485 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
354 微離子® | 354005-YK-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 托 | RS485 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
354 微離子® | 354005-YF-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 托 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
354 微離子® | 354005-YG-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 托 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
354 微離子®
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354005-YD-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
354 微離子®
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354005-YE-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
354 微離子® | 354005-YK-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
354 微離子® | 354005-YF-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
354 微離子® | 354005-YG-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
354 微離子®
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354005-YD-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
354 微離子®
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354005-YE-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
354 微離子® | 354005-YK-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
354 微離子® | 354005-YF-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
354 微離子® | 354005-YG-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
ASML是 Advanced Semiconductor Material Lithography的簡(jiǎn)稱,中文名稱為阿斯麥(中國(guó)大陸)、艾司摩爾(中國(guó)臺(tái)灣)。艾司摩爾(ASML)為半導(dǎo)體設(shè)備供貨商,成立于1984年,是從荷商飛利浦分割出來獨(dú)立的半導(dǎo)體設(shè)備公司,總部設(shè)立于荷蘭的Veldhoven。
ASML為半導(dǎo)體生產(chǎn)商提供光刻機(jī)及相關(guān)服務(wù),TWINSCAN系列,應(yīng)用最為廣泛的高端光刻機(jī)型。目前全球絕大多數(shù)半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商,都向ASML采購(gòu)TWINSCAN機(jī)型,例如英特爾(Inb),三星(Samsung),海力士(Hynix),臺(tái)積電(TSMC),中芯國(guó)際(SMIC)等。
ASML的產(chǎn)品線分為PAS系列,AT系列,XT系列和NXT系列,其中PAS系列光源為高壓汞燈光源,現(xiàn)已停產(chǎn),AT系列屬于老型號(hào),多數(shù)已經(jīng)停產(chǎn)。市場(chǎng)上主力機(jī)種是XT系列以及NXT系列,為ArF和KrF激光光源,XT系列是成熟的機(jī)型,分為干式和沉浸式兩種,而NXT系列則是現(xiàn)在主推的高端機(jī)型,全部為沉浸式。