產(chǎn)品詳情
全新lam bl VODM 料號(hào):796-055344-005MKS傳感器51B13TCA2BA990/51C13TCA2BA990
等離子注入機(jī)刻蝕VAT閥門08138-FA24-0001
TC6MVCR是AMAT 3310-01071、Teledyne Hastings DV-6-VCR和Brooks 8112105熱電偶儀表
AMAT真空計(jì)1350-00681美國MKS流量計(jì)的詳細(xì)信息MKS真空計(jì)355400-0-TD-T氣體流量控制器
HORIBA STEC LF-F404M-A-EVD OMCTS 5g/min液質(zhì)流量計(jì)
MKS MODE:1179A00452CR1BV真空計(jì) 流量計(jì)美國 日本 聯(lián)系13510223365
● 壓力測(cè)量范圍在10ˉ5Torr 到大氣壓,大于普通的皮拉尼真空計(jì)2個(gè)測(cè)量等級(jí)
● 3個(gè)用于工藝控制的中繼點(diǎn)(選擇性)
● 超的設(shè)計(jì)
● 為工藝控制提供高的測(cè)量精度
● 模擬的輸出和數(shù)字通訊(RS232或RS485)提供了簡便的操作
● 可以抵御大氣沖擊和振動(dòng)
● 可以方便地安裝于任何方向,沒有任何測(cè)量精度的損失
● 可以替代任何供應(yīng)商的真空計(jì)和設(shè)施的升級(jí)
● 符合歐洲CE,EMC標(biāo)志
MKS925真空計(jì)可以使用于半導(dǎo)體工業(yè)的分析和鍍膜工藝上的測(cè)量。
● 一般的真空壓力測(cè)量
● 前極管路和低真空的測(cè)量
● 氣體的充填測(cè)量和控制
● 質(zhì)譜儀器的控制
● 真空計(jì)的啟動(dòng)
● 工藝系統(tǒng)的控制
● 控制系統(tǒng)的壓力
深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司
sell Exchang Repair
Debion注入機(jī) FILAMENT P.S電源
Aviza/SPTS Omega ICP etcher configuration inbation:
1.Configured for 8'' wafer
2.automatic wafer handling
3.Cl2 based etching process
4.3 process modules
5.Inspected by SPTS OEM engineer
6.Missing 1x Mag7 robot
7.Missing 1x VCE B controller
8.Missing 1x 24V DC Power supply
ETCH主要產(chǎn)品涉及金屬加工件chamber Linear/heater/slit door);密封件;以及ESC(包括ESC 翻 新
延長了使用壽命
加熱元件的發(fā)熱越有效,需要對(duì)它們進(jìn)行的加熱就越少。Plansee 研發(fā)了一種能夠最大化熱輸出的涂層工藝。
深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司供應(yīng)半導(dǎo)體過濾器 半導(dǎo)體配件mks真空計(jì)流量計(jì) 等進(jìn)口控制器
供應(yīng)CTI低溫泵維修和銷售詳細(xì)介紹
CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機(jī)維修、銷售和技術(shù)咨詢8200/9600
CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機(jī)維修、銷售和技術(shù)咨詢。
OB8F:
OEM (CTI) Refurbished CTI Cryogenics Endura 8F Onboard Cryogenic Vacuum Pump.
. Utilized on AMAT Endura HP PVD Systems, OEM Refurbished to Like New Condition.
. Certificate of manufactures conbity attached.
. ConFlat Flange with Copper Gasket. In OEM Box
. CTI Part # 8116143G001 Serial # A06423485 AMAT Part # 0190-13371
8200: 8032559G001
美國CTI壓縮機(jī)維修9600: 8135900G001
MKS354005-YD-T
Granville-PHillips真空計(jì) 275529-EU
1.型號(hào):275529-EU
2 MKS390411-0-YE-T真空計(jì)GRANVILLE-PHILLIPS
3.非實(shí)價(jià),議價(jià)!英??嫡婵沼?jì)MKS354005-YD-T離子對(duì)撞壓力計(jì)MKS
INFICON BAG302 B-A 型熱陰極電離真空計(jì)(中高真空計(jì))
INFICON 單臺(tái) Bayard-Alpert 熱離子計(jì) BAG302 的測(cè)量范圍從 1.3 × 10-9 到 6.7×10-2 mbar(1 × 10-9 到 5 × 10-2 Torr)。緊湊型一體化熱離子計(jì)BAG302提供易于更換的雙燈絲傳感器,內(nèi)置OLED顯示屏,設(shè)定點(diǎn)繼電器和對(duì)數(shù)線性模擬輸出以及集成的RS485數(shù)字接口,可提高集成靈活性。這些功能與堅(jiān)固的設(shè)計(jì)相結(jié)合,使BAG302成為一種經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且可重復(fù)的過程,可作為自己的壓力測(cè)量儀器的基礎(chǔ),并提供高價(jià)值/低擁有成本的選擇。
INFICON 的 BAG302 熱離子計(jì)是下面列出的 MKS/GP 部件號(hào)的直接直接替代品。 這還包括較舊的傳統(tǒng) MKS 354 微離子®模塊。
MKS系列 | 部件號(hào) | 顯示 | 單位 | 輸出 | 法蘭型 | 燈絲 | INFICON部件號(hào) |
355 微離子®
|
355400-0-碼 | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
355 微離子®
|
355400-0-葉-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
355 微離子® | 355400-0-YK-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
355 微離子® | 355400-0-YF-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
355 微離子® | 355400-0-YG-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
355 微離子®
|
355400-0-碼 | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
355 微離子®
|
355400-0-葉-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
355 微離子® | 355400-0-YK-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
355 微離子® | 355400-0-YF-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-052 |
355 微離子® | 355400-0-YG-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
355 微離子®
|
355400-0-碼 | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
355 微離子®
|
355400-0-葉-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
355 微離子® | 355400-0-YK-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
355 微離子® | 355400-0-YF-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
355 微離子® | 355400-0-YG-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
355 微離子®
|
355600-0-碼 | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
355 微離子®
|
355600-0-葉-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
355 微離子® | 355600-0-YK-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
355 微離子® | 355600-0-YF-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-052 |
355 微離子® | 355600-0-YG-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
355 微離子®
|
355600-0-碼 | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
355 微離子®
|
355600-0-葉-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
355 微離子® | 355600-0-YK-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
355 微離子® | 355600-0-YF-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
355 微離子® | 355600-0-YG-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
355 微離子®
|
355600-0-碼 | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
355 微離子®
|
355600-0-葉-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
355 微離子® | 355600-0-YK-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
355 微離子® | 355600-0-YF-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
355 微離子® | 355600-0-YG-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
355 微離子®
|
355410-0-碼 | 不 | 托 | RS485 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
355 微離子®
|
355410-0-葉-T | 不 | 托 | RS485 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
355 微離子® | 355410-0-YK-T | 不 | 托 | RS485 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
355 微離子® | 355410-0-YF-T | 不 | 托 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
355 微離子® | 355410-0-YG-T | 不 | 托 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354001-YD-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
354 微離子®
|
354001-YE-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 托 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
354 微離子® | 354001-YK-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
354 微離子® | 354001-YF-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
354 微離子® | 354001-YG-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
354 微離子®
|
354001-YD-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
354 微離子®
|
354001-YE-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
354 微離子® | 354001-YK-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
354 微離子® | 354001-YF-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
354 微離子® | 354001-YG-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
354 微離子®
|
354001-YD-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
354 微離子®
|
354001-YE-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
354 微離子® | 354001-YK-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
354 微離子® | 354001-YF-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
354 微離子® | 354001-YG-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
354 微離子®
|
354002-YD-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
354 微離子®
|
354002-YE-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
354 微離子® | 354002-YK-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
354 微離子® | 354002-YF-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
354 微離子® | 354002-YG-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
354 微離子®
|
354002-YD-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
354 微離子®
|
354002-YE-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
354 微離子® | 354002-YK-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
354 微離子® | 354002-YF-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
354 微離子® | 354002-YG-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
354 微離子®
|
354002-YD-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
354 微離子®
|
354002-YE-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
354 微離子® | 354002-YK-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
354 微離子® | 354002-YF-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
354 微離子® | 354002-YG-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
354 微離子®
|
354005-YD-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 托 | RS485 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
354 微離子®
|
354005-YE-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 托 | RS485 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
354 微離子® | 354005-YK-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 托 | RS485 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
354 微離子® | 354005-YF-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 托 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
354 微離子® | 354005-YG-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 托 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
354 微離子®
|
354005-YD-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
354 微離子®
|
354005-YE-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
354 微離子® | 354005-YK-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
354 微離子® | 354005-YF-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
354 微離子® | 354005-YG-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
354 微離子®
|
354005-YD-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
354 微離子®
|
354005-YE-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
354 微離子® | 354005-YK-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
354 微離子® | 354005-YF-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
354 微離子® | 354005-YG-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
ASML是 Advanced Semiconductor Material Lithography的簡稱,中文名稱為阿斯麥(中國大陸)、艾司摩爾(中國臺(tái)灣)。艾司摩爾(ASML)為半導(dǎo)體設(shè)備供貨商,成立于1984年,是從荷商飛利浦分割出來獨(dú)立的半導(dǎo)體設(shè)備公司,總部設(shè)立于荷蘭的Veldhoven。
ASML為半導(dǎo)體生產(chǎn)商提供光刻機(jī)及相關(guān)服務(wù),TWINSCAN系列,應(yīng)用最為廣泛的高端光刻機(jī)型。目前全球絕大多數(shù)半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商,都向ASML采購TWINSCAN機(jī)型,例如英特爾(Inb),三星(Samsung),海力士(Hynix),臺(tái)積電(TSMC),中芯國際(SMIC)等。
ASML的產(chǎn)品線分為PAS系列,AT系列,XT系列和NXT系列,其中PAS系列光源為高壓汞燈光源,現(xiàn)已停產(chǎn),AT系列屬于老型號(hào),多數(shù)已經(jīng)停產(chǎn)。市場(chǎng)上主力機(jī)種是XT系列以及NXT系列,為ArF和KrF激光光源,XT系列是成熟的機(jī)型,分為干式和沉浸式兩種,而NXT系列則是現(xiàn)在主推的高端機(jī)型,全部為沉浸式。