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熱門產(chǎn)品：真空計(jì) 更多>>

HORIBA STEC LF-F404M-A-EVD OMCTS 5g/min液質(zhì)流量計(jì)

數(shù)量(個(gè))	價(jià)格
1	9999.99元/個(gè)

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最小起訂： 1個(gè)
發(fā)貨地址：廣東深圳市
付款方式：面議
發(fā)布日期：2024-12-14
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深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司

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聯(lián)系人：張志通
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營(yíng)業(yè)執(zhí)照：已審核
經(jīng)營(yíng)模式：貿(mào)易公司-私營(yíng)獨(dú)資企業(yè)
所在地區(qū)：廣東深圳市
家家通積分：13865分

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詳細(xì)參數(shù)
品牌	CTI	規(guī)格型號(hào)	PCS
編號(hào)	550	計(jì)量單位	1個(gè)
付款方式	面議	參考價(jià)格	9999.99
價(jià)格單位	人民幣	供貨量	不限
說明書，報(bào)價(jià)手冊(cè)及驅(qū)動(dòng)	暫無相關(guān)下載	其他資料下載	暫無相關(guān)下載
產(chǎn)地	美國(guó)	發(fā)貨地	廣東深圳市

產(chǎn)品詳情

全新lam bl VODM 料號(hào)：796-055344-005

等離子注入機(jī)刻蝕VAT閥門08138-FA24-0001

AMAT真空計(jì)1350-00681美國(guó)MKS流量計(jì)的詳細(xì)信息MKS真空計(jì)355400-0-TD-T氣體流量控制器

HORIBA STEC LF-F404M-A-EVD OMCTS 5g/min液質(zhì)流量計(jì)

MKS MODE：1179A00452CR1BV真空計(jì) 流量計(jì)美國(guó) 日本聯(lián)系13510223365

● 壓力測(cè)量范圍在10ˉ5Torr 到大氣壓，大于普通的皮拉尼真空計(jì)2個(gè)測(cè)量等級(jí)
● 3個(gè)用于工藝控制的中繼點(diǎn)(選擇性)
● 超的設(shè)計(jì)
● 為工藝控制提供高的測(cè)量精度
● 模擬的輸出和數(shù)字通訊(RS232或RS485)提供了簡(jiǎn)便的操作
● 可以抵御大氣沖擊和振動(dòng)
● 可以方便地安裝于任何方向，沒有任何測(cè)量精度的損失
● 可以替代任何供應(yīng)商的真空計(jì)和設(shè)施的升級(jí)
● 符合歐洲CE，EMC標(biāo)志

MKS925真空計(jì)可以使用于半導(dǎo)體工業(yè)的分析和鍍膜工藝上的測(cè)量。
● 一般的真空壓力測(cè)量
● 前極管路和低真空的測(cè)量
● 氣體的充填測(cè)量和控制
● 質(zhì)譜儀器的控制
● 真空計(jì)的啟動(dòng)
● 工藝系統(tǒng)的控制
● 控制系統(tǒng)的壓力

深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司

sell Exchang Repair

Debion注入機(jī) FILAMENT P.S電源

Aviza/SPTS Omega ICP etcher configuration inbation:

1.Configured for 8'' wafer

2.automatic wafer handling

3.Cl2 based etching process

4.3 process modules

5.Inspected by SPTS OEM engineer

6.Missing 1x Mag7 robot

7.Missing 1x VCE B controller

8.Missing 1x 24V DC Power supply

sell Exchang Repair Debion注入機(jī) FILAMENT P.S電源

ETCH主要產(chǎn)品涉及金屬加工件chamber Linear/heater/slit door）；密封件；以及ESC（包括ESC 翻新

延長(zhǎng)了使用壽命

加熱元件的發(fā)熱越有效，需要對(duì)它們進(jìn)行的加熱就越少。Plansee 研發(fā)了一種能夠最大化熱輸出的涂層工藝。

深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司供應(yīng)半導(dǎo)體過濾器半導(dǎo)體配件mks真空計(jì)流量計(jì) 等進(jìn)口控制器

供應(yīng)CTI低溫泵維修和銷售詳細(xì)介紹

CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機(jī)維修、銷售和技術(shù)咨詢8200/9600

CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機(jī)維修、銷售和技術(shù)咨詢。

OB8F:

OEM (CTI) Refurbished CTI Cryogenics Endura 8F Onboard Cryogenic Vacuum Pump.

. Utilized on AMAT Endura HP PVD Systems, OEM Refurbished to Like New Condition.

. Certificate of manufactures conbity attached.

. ConFlat Flange with Copper Gasket. In OEM Box

. CTI Part # 8116143G001 Serial # A06423485 AMAT Part # 0190-13371

8200: 8032559G001

美國(guó)CTI壓縮機(jī)維修9600: 8135900G001

MKS354005-YD-T

Granville-PHillips真空計(jì) 275529-EU

1.型號(hào)：275529-EU

2 MKS390411-0-YE-T真空計(jì)GRANVILLE-PHILLIPS

3.非實(shí)價(jià)，議價(jià)！英?？嫡婵沼?jì)MKS354005-YD-T離子對(duì)撞壓力計(jì)MKS
INFICON BAG302 B-A 型熱陰極電離真空計(jì)(中高真空計(jì))

INFICON 單臺(tái) Bayard-Alpert 熱離子計(jì) BAG302 的測(cè)量范圍從 1.3 × 10-9 到 6.7×10-2 mbar（1 × 10-9 到 5 × 10-2 Torr）。緊湊型一體化熱離子計(jì)BAG302提供易于更換的雙燈絲傳感器，內(nèi)置OLED顯示屏，設(shè)定點(diǎn)繼電器和對(duì)數(shù)線性模擬輸出以及集成的RS485數(shù)字接口，可提高集成靈活性。這些功能與堅(jiān)固的設(shè)計(jì)相結(jié)合，使BAG302成為一種經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且可重復(fù)的過程，可作為自己的壓力測(cè)量?jī)x器的基礎(chǔ)，并提供高價(jià)值/低擁有成本的選擇。

INFICON 的 BAG302 熱離子計(jì)是下面列出的 MKS/GP 部件號(hào)的直接直接替代品。這還包括較舊的傳統(tǒng) MKS 354 微離子®模塊。

MKS系列部件號(hào) 顯示單位輸出法蘭型燈絲 INFICON部件號(hào)

355 微離子®
355400-0-碼不托模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050

355 微離子®
355400-0-葉-T 不托模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051

355 微離子® 355400-0-YK-T 不托模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052

355 微離子® 355400-0-YF-T 不托模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

355 微離子® 355400-0-YG-T 不托模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

355 微離子®
355400-0-碼不毫巴模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050

355 微離子®
355400-0-葉-T 不毫巴模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050

355 微離子® 355400-0-YK-T 不毫巴模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052

355 微離子® 355400-0-YF-T 不毫巴模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-052

355 微離子® 355400-0-YG-T 不毫巴模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

355 微離子®
355400-0-碼不帕斯卡模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050

355 微離子®
355400-0-葉-T 不帕斯卡模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051

355 微離子® 355400-0-YK-T 不帕斯卡模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052

355 微離子® 355400-0-YF-T 不帕斯卡模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

355 微離子® 355400-0-YG-T 不帕斯卡模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

355 微離子®
355600-0-碼發(fā)光二極管托模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050

355 微離子®
355600-0-葉-T 發(fā)光二極管托模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050

355 微離子® 355600-0-YK-T 發(fā)光二極管托模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052

355 微離子® 355600-0-YF-T 發(fā)光二極管托模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-052

355 微離子® 355600-0-YG-T 發(fā)光二極管托模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

355 微離子®
355600-0-碼發(fā)光二極管毫巴模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050

355 微離子®
355600-0-葉-T 發(fā)光二極管毫巴模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051

355 微離子® 355600-0-YK-T 發(fā)光二極管毫巴模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052

355 微離子® 355600-0-YF-T 發(fā)光二極管毫巴模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

355 微離子® 355600-0-YG-T 發(fā)光二極管毫巴模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

355 微離子®
355600-0-碼發(fā)光二極管帕斯卡模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050

355 微離子®
355600-0-葉-T 發(fā)光二極管帕斯卡模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051

355 微離子® 355600-0-YK-T 發(fā)光二極管帕斯卡模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052

355 微離子® 355600-0-YF-T 發(fā)光二極管帕斯卡模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

355 微離子® 355600-0-YG-T 發(fā)光二極管帕斯卡模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

355 微離子®
355410-0-碼不托 RS485 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050

355 微離子®
355410-0-葉-T 不托 RS485 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051

355 微離子® 355410-0-YK-T 不托 RS485 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052

355 微離子® 355410-0-YF-T 不托 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

355 微離子® 355410-0-YG-T 不托 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

354 微離子®
354001-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不托模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050

354 微離子®
354001-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不托模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051

354 微離子® 354001-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不托模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052

354 微離子® 354001-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不托模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

354 微離子® 354001-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不托模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

354 微離子®
354001-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不毫巴模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050

354 微離子®
354001-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不毫巴模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051

354 微離子® 354001-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不毫巴模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052

354 微離子® 354001-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不毫巴模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

354 微離子® 354001-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不毫巴模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

354 微離子®
354001-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不帕斯卡模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050

354 微離子®
354001-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不帕斯卡模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051

354 微離子® 354001-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不帕斯卡模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052

354 微離子® 354001-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不帕斯卡模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

354 微離子® 354001-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不帕斯卡模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

354 微離子®
354002-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管托模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050

354 微離子®
354002-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管托模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051

354 微離子® 354002-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管托模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052

354 微離子® 354002-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管托模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

354 微離子® 354002-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管托模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

354 微離子®
354002-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管毫巴模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050

354 微離子®
354002-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管毫巴模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051

354 微離子® 354002-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管毫巴模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052

354 微離子® 354002-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管毫巴模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

354 微離子® 354002-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管毫巴模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

354 微離子®
354002-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管帕斯卡模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050

354 微離子®
354002-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管帕斯卡模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051

354 微離子® 354002-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管帕斯卡模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052

354 微離子® 354002-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管帕斯卡模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

354 微離子® 354002-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管帕斯卡模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

354 微離子®
354005-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不托 RS485 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050

354 微離子®
354005-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不托 RS485 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051

354 微離子® 354005-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不托 RS485 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052

354 微離子® 354005-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不托 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

354 微離子® 354005-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不托 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

354 微離子®
354005-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不毫巴 RS485 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050

354 微離子®
354005-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不毫巴 RS485 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051

354 微離子® 354005-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不毫巴 RS485 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052

354 微離子® 354005-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不毫巴 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

354 微離子® 354005-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不毫巴 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

354 微離子®
354005-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不帕斯卡 RS485 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050

354 微離子®
354005-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不帕斯卡 RS485 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051

354 微離子® 354005-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不帕斯卡 RS485 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052

354 微離子® 354005-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不帕斯卡 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

354 微離子® 354005-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不帕斯卡 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

進(jìn)口CWFG00403 光刻膠過濾器 WGGB06S02濾芯

ASML是 Advanced Semiconductor Material Lithography的簡(jiǎn)稱，中文名稱為阿斯麥（中國(guó)大陸）、艾司摩爾（中國(guó)臺(tái)灣）。艾司摩爾（ASML）為半導(dǎo)體設(shè)備供貨商，成立于1984年，是從荷商飛利浦分割出來獨(dú)立的半導(dǎo)體設(shè)備公司，總部設(shè)立于荷蘭的Veldhoven。

ASML為半導(dǎo)體生產(chǎn)商提供光刻機(jī)及相關(guān)服務(wù)，TWINSCAN系列，應(yīng)用最為廣泛的高端光刻機(jī)型。目前全球絕大多數(shù)半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商，都向ASML采購TWINSCAN機(jī)型，例如英特爾（Inb），三星（Samsung），海力士（Hynix），臺(tái)積電（TSMC），中芯國(guó)際（SMIC）等。

ASML的產(chǎn)品線分為PAS系列，AT系列，XT系列和NXT系列，其中PAS系列光源為高壓汞燈光源，現(xiàn)已停產(chǎn)，AT系列屬于老型號(hào)，多數(shù)已經(jīng)停產(chǎn)。市場(chǎng)上主力機(jī)種是XT系列以及NXT系列，為ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的機(jī)型，分為干式和沉浸式兩種，而NXT系列則是現(xiàn)在主推的高端機(jī)型，全部為沉浸式。

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