產(chǎn)品詳情
等離子注入機刻蝕VAT閥門08138-FA24-0001
AMAT真空計1350-00681美國MKS流量計的詳細信息MKS真空計355400-0-TD-T氣體流量控制器
美國MKS流量計
美國MKS INSTRUMENTS成立于1961年，作為半導體零部件的供應商，在氣體、真空儀器及制程控制應用等方面有技術獨到之處，美國萬機儀器MKS INSTRUMENTS產(chǎn)品起源于壓力測量和控制核心技術，延伸到材料遞送、氣體成分分析、靜電荷控制、工藝控制、信息管理、電源和反應氣體發(fā)生器及真空技術，其產(chǎn)品廣泛地應用于各種半導體生產(chǎn)設備和制造過程中。美國MKS產(chǎn)品包括：美國MKS流量計、MKS薄膜真空計、MKS流量控制閥。
代表型號：AX7690,AX3060,AX7610,AX2500,AX2600,AX7670,AX7680,AX7685,AX7645,LIQUOZON,NOVA-25,NOVA-50,SPECTRUMB5002, SPECTRUM B11002,ACG-3B,ACG-6B,ACG-10B,GHW-12,GHW-25,GHW-50,SPECTRUM 3013,SUREPOWER QL3513, SUREPOWERQL6513, SUREPOWER QL10513, SUREPOWER QL13013,OPTIMA OPT-50, OPTIMA OPT-100, OPTIMA OPT-200, OPTIMA OPT-400,OPTIMA OPT-600,RPG-50,RPG-100,ENI-RFPC,MWH-5,MW-10D,ENI-2500-13.56,MWH-100,MWH-25,VIPROBE,1249A,148JA11CR1M, 148JA12CR1M, 148JA13CR1M, 148JA14CR1M, 148JA21CR1M, 148JA22CR1M, 148JA23CR1M,
MKS BARATRON 622A01TDE 1 Pa/133.32C70145 Lot 2
MKS Baratron Pressure Switch (41A & 51A)
MKS INSTRUMENTS PORTABLE BARATRON SYSTEM
MKS Instruments Baratron Pressure Transducer 220BHS-2A1
MKS Baratron Type 224/224HA Pressure Switch/Controll?er
MKS Baratron Absolute Pressure Transducer 627B Manual
MKS 621C13TBFHD BARATRON SIGNAL CONDITIONER PRESSURE
MKS PAR-10 BARATRON
MKS BARATRON 627A-13614 .25 Pa/133.32
MKS Baratron Pressure XDCR, 1350-01153, 750B11TCD2GG
MKS BARATRON 223BD-00100AAB PRESSURE TRANSDUCER TYP 223
MKS BARATRON PRESSURE TRANSDUCER 850BRDPCB4GH
MKS Baratron Pressure Transducer 872B12PMD2MT1 100PSIA
MKS BARATRON HEAD UNIT MODEL# 698A12TRA 100 TORR
MKS Model 722A 21TCB3FJ Baratron, 20 TORR Range
MKS Baratron Manometer 100 Torr 622A12TAE new
MKS Baratron Capacitance Manometer 100 Torr 626A12TBETEL UNITY II
MKS BARATRON 627 PRESSURE TRNSDCER 10 TORRTEL UNITY II
MKS BARATRON 627 PRESSURE TRNSDCER 10 TORR
MKS BARATRON PRESSURE SWITCH 51A 450 Torr VCR 1000 -NEW
MKS Baratron Pressure Switch 10 Torr-G 41A-15460 NEW
MKS Baratron Single-end Vacuum Switch, 51A11TGA2BA001
MKS BARATRON PRESSURE TRANSDUCER 722A13TCD2FA
MKS BARATRON PRESSURE GAUGE TRANSDUCER 1000 PSI 840B SS
MKS Baratron Manometer Transducer 1000 Torr 626A13TBE
MKS Baratron Single-end Pressure Switch, 51A13TCA1AA999
深圳市天鉉真空技術有限公司供應半導體過濾器 半導體配件mks真空計流量計 等進口控制器
供應CTI低溫泵維修和銷售詳細介紹
CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機維修、銷售和技術咨詢8200/9600
CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機維修、銷售和技術咨詢。
OB8F:
OEM (CTI) Refurbished CTI Cryogenics Endura 8F Onboard Cryogenic Vacuum Pump.
. Utilized on AMAT Endura HP PVD Systems, OEM Refurbished to Like New Condition.
. Certificate of manufactures conbity attached.
. ConFlat Flange with Copper Gasket. In OEM Box
. CTI Part # 8116143G001 Serial # A06423485 AMAT Part # 0190-13371
8200: 8032559G001
美國CTI壓縮機維修9600: 8135900G001
MKS354005-YD-T
Granville-PHillips真空計 275529-EU
1.型號：275529-EU
2 MKS390411-0-YE-T真空計GRANVILLE-PHILLIPS
3.非實價，議價！英?？嫡婵沼婱KS354005-YD-T離子對撞壓力計MKS
INFICON BAG302 B-A 型熱陰極電離真空計(中高真空計)
INFICON 單臺 Bayard-Alpert 熱離子計 BAG302 的測量范圍從 1.3 × 10-9 到 6.7×10-2 mbar（1 × 10-9 到 5 × 10-2 Torr）。緊湊型一體化熱離子計BAG302提供易于更換的雙燈絲傳感器，內(nèi)置OLED顯示屏，設定點繼電器和對數(shù)線性模擬輸出以及集成的RS485數(shù)字接口，可提高集成靈活性。這些功能與堅固的設計相結合，使BAG302成為一種經(jīng)濟實惠且可重復的過程，可作為自己的壓力測量儀器的基礎，并提供高價值/低擁有成本的選擇。
INFICON 的 BAG302 熱離子計是下面列出的 MKS/GP 部件號的直接直接替代品。 這還包括較舊的傳統(tǒng) MKS 354 微離子®模塊。
| MKS系列 | 部件號 | 顯示 | 單位 | 輸出 | 法蘭型 | 燈絲 | INFICON部件號 |
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355 微離子®
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355400-0-碼 | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
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355400-0-葉-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 355 微離子® | 355400-0-YK-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355400-0-YF-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 355 微離子® | 355400-0-YG-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
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355400-0-碼 | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
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355400-0-葉-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
| 355 微離子® | 355400-0-YK-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355400-0-YF-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355400-0-YG-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
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355400-0-碼 | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
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355400-0-葉-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 355 微離子® | 355400-0-YK-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355400-0-YF-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 355 微離子® | 355400-0-YG-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
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355600-0-碼 | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
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355600-0-葉-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
| 355 微離子® | 355600-0-YK-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355600-0-YF-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355600-0-YG-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
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355600-0-碼 | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
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355600-0-葉-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 355 微離子® | 355600-0-YK-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355600-0-YF-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 355 微離子® | 355600-0-YG-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
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355600-0-碼 | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
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355600-0-葉-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 355 微離子® | 355600-0-YK-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355600-0-YF-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 355 微離子® | 355600-0-YG-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
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355410-0-碼 | 不 | 托 | RS485 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
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355410-0-葉-T | 不 | 托 | RS485 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 355 微離子® | 355410-0-YK-T | 不 | 托 | RS485 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355410-0-YF-T | 不 | 托 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 355 微離子® | 355410-0-YG-T | 不 | 托 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354001-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354001-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354001-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354001-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354001-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354001-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354001-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354001-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354001-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354001-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354001-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354001-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354001-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354001-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354001-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354002-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354002-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354002-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354002-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354002-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354002-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354002-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354002-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354002-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354002-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354002-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354002-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354002-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354002-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354002-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354005-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | RS485 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354005-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | RS485 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354005-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | RS485 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354005-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354005-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354005-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354005-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354005-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354005-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354005-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354005-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354005-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354005-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354005-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354005-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
ASML是 Advanced Semiconductor Material Lithography的簡稱，中文名稱為阿斯麥（中國大陸）、艾司摩爾（中國臺灣）。艾司摩爾（ASML）為半導體設備供貨商，成立于1984年，是從荷商飛利浦分割出來獨立的半導體設備公司，總部設立于荷蘭的Veldhoven。
ASML為半導體生產(chǎn)商提供光刻機及相關服務，TWINSCAN系列，應用最為廣泛的高端光刻機型。目前全球絕大多數(shù)半導體生產(chǎn)廠商，都向ASML采購TWINSCAN機型，例如英特爾（Inb），三星（Samsung），海力士（Hynix），臺積電（TSMC），中芯國際（SMIC）等。
ASML的產(chǎn)品線分為PAS系列，AT系列，XT系列和NXT系列，其中PAS系列光源為高壓汞燈光源，現(xiàn)已停產(chǎn)，AT系列屬于老型號，多數(shù)已經(jīng)停產(chǎn)。市場上主力機種是XT系列以及NXT系列，為ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的機型，分為干式和沉浸式兩種，而NXT系列則是現(xiàn)在主推的高端機型，全部為沉浸式。
