如有其它 P5000機臺配件需求，歡迎咨詢！
PART NUMBER ： 0010-76175
DESCRIPITION ： CVD Throttle Valve
產(chǎn)品詳情
275400-1-GD-T（MKS）傳感器真空計供應GP Stabil-Ion Gage 370120尼康NIKON光刻機CPCR-0101-NQIC帶質(zhì)保電源現(xiàn)貨供應
GP離子規(guī)Stabil-Ion Gage 370120真空計
This listing is for a quantity of one (1) gauge tube with Memory Module.
- Granville-Phillips 370120
- "Extended Range" style gauge tube (X-ray limit is ~2 x 10-10torr)
- 2-3/4" Conflat style flange
- Memory Module
美國MKS640A-14312氣體質(zhì)量流量計1480A控制器
MKS649B0C121T21CAVR壓力流量控制器
MKS美國649B氣體質(zhì)量流量計1480A控制器
深圳市天鉉真空技術有限公司成立于，是國內(nèi)專業(yè)的流量計服務商。致力于進口質(zhì)量流量計、壓力傳感器等壓力測量器件的校準、維修及*。其技術*、高可靠性及誠信使其成為行業(yè)的，是專業(yè)的MFC技術服務商。
專門經(jīng)營進口氣體質(zhì)量流量計銷售，全套校準證書，一年質(zhì)保期。
本公司專業(yè)銷售質(zhì)量流量計近40年，具有豐富的銷售和售后服務經(jīng)驗，我們有專業(yè)的服務團隊和專業(yè)工程師對產(chǎn)品進行跟蹤服務。
具體產(chǎn)品參數(shù)，價格請詢價，請聯(lián)系張經(jīng)理
本公司主要經(jīng)營的品牌有：
HORIBA
MKS
BROOKS
UNIT
AERA
MKS
MYKROLIS
MILLIPORE
SAM
STEC
美國MKS640A-14312氣體質(zhì)量流量計1480A控制器
流量計FC-2902VigiLJbTA 第二種辦法是順序執(zhí)行指令。一個程序由若干個程序段組成，每個程序段的指令可以設計成順序地存放在存儲器之中，所以只要指令地址寄存器兼有計數(shù)功能，在執(zhí)行指令的過程中進行計數(shù)，自動加一個增量，就可以形成下一條指令的地址，從而達到順序執(zhí)行指令的目的。這個辦法適用于以隨機存儲器作為主存儲器的計算機。當程序的運行需要從一個程序段轉向另一個程序段時，可以利用轉移指令來實現(xiàn)。轉移指令中包含了即將轉去的程序段入口指令的地址。執(zhí)行轉移指令時將這個地址送人程序計數(shù)器(此時只作為指令地址寄存器，不計數(shù))作為下一條指令的地址，從而達到轉移程序段的目的。子程序的調(diào)用、都用類似的方法。在隨機存取存儲器普及以后，第二種辦法的整體運行效果大大地優(yōu)于*種辦法，因而順序執(zhí)行指令已經(jīng)成為主流計算機普遍采用的辦法，程序計數(shù)器就成為*處理器*的一個控制部件。
美國MKS640A-14312氣體質(zhì)量流量計1480A控制器
MKS649B0C121T21CAVR壓力流量控制器
MKS美國649B氣體質(zhì)量流量計1480A控制器
深圳市天鉉真空技術有限公司成立于，是國內(nèi)專業(yè)的流量計服務商。致力于進口質(zhì)量流量計、壓力傳感器等壓力測量器件的校準、維修及*。其技術*、高可靠性及誠信使其成為行業(yè)的，是專業(yè)的MFC技術服務商。
專門經(jīng)營進口氣體質(zhì)量流量計銷售，全套校準證書，一年質(zhì)保期。
本公司專業(yè)銷售質(zhì)量流量計近40年，具有豐富的銷售和售后服務經(jīng)驗，我們有專業(yè)的服務團隊和專業(yè)工程師對產(chǎn)品進行跟蹤服務。
具體產(chǎn)品參數(shù)，價格請詢價，請聯(lián)系張經(jīng)理
本公司主要經(jīng)營的品牌有：
HORIBA
MKS
BROOKS
UNIT
AERA
MKS
MYKROLIS
MILLIPORE
SAM
STEC
美國MKS640A-14312氣體質(zhì)量流量計1480A控制器
流量計FC-2902VigiLJbTA 第二種辦法是順序執(zhí)行指令。一個程序由若干個程序段組成，每個程序段的指令可以設計成順序地存放在存儲器之中，所以只要指令地址寄存器兼有計數(shù)功能，在執(zhí)行指令的過程中進行計數(shù)，自動加一個增量，就可以形成下一條指令的地址，從而達到順序執(zhí)行指令的目的。這個辦法適用于以隨機存儲器作為主存儲器的計算機。當程序的運行需要從一個程序段轉向另一個程序段時，可以利用轉移指令來實現(xiàn)。轉移指令中包含了即將轉去的程序段入口指令的地址。執(zhí)行轉移指令時將這個地址送人程序計數(shù)器(此時只作為指令地址寄存器，不計數(shù))作為下一條指令的地址，從而達到轉移程序段的目的。子程序的調(diào)用、都用類似的方法。在隨機存取存儲器普及以后，第二種辦法的整體運行效果大大地優(yōu)于*種辦法，因而順序執(zhí)行指令已經(jīng)成為主流計算機普遍采用的辦法，程序計數(shù)器就成為*處理器*的一個控制部件。
深圳市天鉉真空技術有限公司供應半導體過濾器 半導體配件mks真空計流量計 等進口控制器
供應CTI低溫泵維修和銷售詳細介紹
CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機維修、銷售和技術咨詢8200/9600
CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機維修、銷售和技術咨詢。
OB8F:
OEM (CTI) Refurbished CTI Cryogenics Endura 8F Onboard Cryogenic Vacuum Pump.
. Utilized on AMAT Endura HP PVD Systems, OEM Refurbished to Like New Condition.
. Certificate of manufactures conbity attached.
. ConFlat Flange with Copper Gasket. In OEM Box
. CTI Part # 8116143G001 Serial # A06423485 AMAT Part # 0190-13371
8200: 8032559G001
美國CTI壓縮機維修9600: 8135900G001
MKS354005-YD-T
Granville-PHillips真空計 275529-EU
1.型號：275529-EU
2 MKS390411-0-YE-T真空計GRANVILLE-PHILLIPS
3.非實價，議價！英?？嫡婵沼婱KS354005-YD-T離子對撞壓力計MKS
INFICON BAG302 B-A 型熱陰極電離真空計(中高真空計)
INFICON 單臺 Bayard-Alpert 熱離子計 BAG302 的測量范圍從 1.3 × 10-9 到 6.7×10-2 mbar（1 × 10-9 到 5 × 10-2 Torr）。緊湊型一體化熱離子計BAG302提供易于更換的雙燈絲傳感器，內(nèi)置OLED顯示屏，設定點繼電器和對數(shù)線性模擬輸出以及集成的RS485數(shù)字接口，可提高集成靈活性。這些功能與堅固的設計相結合，使BAG302成為一種經(jīng)濟實惠且可重復的過程，可作為自己的壓力測量儀器的基礎，并提供高價值/低擁有成本的選擇。
INFICON 的 BAG302 熱離子計是下面列出的 MKS/GP 部件號的直接直接替代品。 這還包括較舊的傳統(tǒng) MKS 354 微離子®模塊。
| MKS系列 | 部件號 | 顯示 | 單位 | 輸出 | 法蘭型 | 燈絲 | INFICON部件號 |
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355 微離子®
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355400-0-碼 | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
|
355400-0-葉-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 355 微離子® | 355400-0-YK-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355400-0-YF-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 355 微離子® | 355400-0-YG-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
|
355 微離子®
|
355400-0-碼 | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
|
355400-0-葉-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
| 355 微離子® | 355400-0-YK-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355400-0-YF-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355400-0-YG-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
|
355400-0-碼 | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
|
355400-0-葉-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 355 微離子® | 355400-0-YK-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355400-0-YF-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 355 微離子® | 355400-0-YG-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
|
355600-0-碼 | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
|
355600-0-葉-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
| 355 微離子® | 355600-0-YK-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355600-0-YF-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355600-0-YG-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
|
355600-0-碼 | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
|
355600-0-葉-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 355 微離子® | 355600-0-YK-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355600-0-YF-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 355 微離子® | 355600-0-YG-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
|
355600-0-碼 | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
|
355600-0-葉-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 355 微離子® | 355600-0-YK-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355600-0-YF-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 355 微離子® | 355600-0-YG-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
|
355410-0-碼 | 不 | 托 | RS485 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
|
355410-0-葉-T | 不 | 托 | RS485 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 355 微離子® | 355410-0-YK-T | 不 | 托 | RS485 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355410-0-YF-T | 不 | 托 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 355 微離子® | 355410-0-YG-T | 不 | 托 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354001-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
|
354 微離子®
|
354001-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354001-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354001-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354001-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354001-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354001-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354001-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354001-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354001-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354001-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354001-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354001-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354001-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354001-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354002-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354002-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354002-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354002-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354002-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354002-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354002-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354002-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354002-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354002-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354002-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354002-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354002-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354002-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354002-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354005-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | RS485 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354005-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | RS485 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354005-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | RS485 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354005-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354005-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354005-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354005-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354005-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354005-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354005-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354005-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 16 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354005-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 25 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354005-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 40 國際標準-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354005-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354005-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
ASML是 Advanced Semiconductor Material Lithography的簡稱，中文名稱為阿斯麥（中國大陸）、艾司摩爾（中國臺灣）。艾司摩爾（ASML）為半導體設備供貨商，成立于1984年，是從荷商飛利浦分割出來獨立的半導體設備公司，總部設立于荷蘭的Veldhoven。
ASML為半導體生產(chǎn)商提供光刻機及相關服務，TWINSCAN系列，應用最為廣泛的高端光刻機型。目前全球絕大多數(shù)半導體生產(chǎn)廠商，都向ASML采購TWINSCAN機型，例如英特爾（Inb），三星（Samsung），海力士（Hynix），臺積電（TSMC），中芯國際（SMIC）等。
ASML的產(chǎn)品線分為PAS系列，AT系列，XT系列和NXT系列，其中PAS系列光源為高壓汞燈光源，現(xiàn)已停產(chǎn)，AT系列屬于老型號，多數(shù)已經(jīng)停產(chǎn)。市場上主力機種是XT系列以及NXT系列，為ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的機型，分為干式和沉浸式兩種，而NXT系列則是現(xiàn)在主推的高端機型，全部為沉浸式。
