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MKS649B0C121T21CAVR壓力流量控制器

數(shù)量(個)	價格
1	9999.99元/個

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付款方式：面議
發(fā)布日期：2024-12-14
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深圳市天鉉真空技術有限公司

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所在地區(qū)：廣東深圳市
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詳細參數(shù)
品牌	CTI	規(guī)格型號	PCS
編號	550	計量單位	1個
付款方式	面議	參考價格	9999.99
價格單位	人民幣	供貨量	不限
說明書，報價手冊及驅動	暫無相關下載	其他資料下載	暫無相關下載
產(chǎn)地	美國	發(fā)貨地	廣東深圳市

產(chǎn)品詳情

MKS649B0C121T21CAVR壓力流量控制器

深圳市天鉉真空技術有限公司供應半導體過濾器半導體配件mks真空計流量計等進口控制器

供應CTI低溫泵維修和銷售詳細介紹

CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機維修、銷售和技術咨詢8200/9600

CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機維修、銷售和技術咨詢。

OB8F:

OEM (CTI) Refurbished CTI Cryogenics Endura 8F Onboard Cryogenic Vacuum Pump.

. Utilized on AMAT Endura HP PVD Systems, OEM Refurbished to Like New Condition.

. Certificate of manufactures conbity attached.

. ConFlat Flange with Copper Gasket. In OEM Box

. CTI Part # 8116143G001 Serial # A06423485 AMAT Part # 0190-13371

8200: 8032559G001

美國CTI壓縮機維修9600: 8135900G001

MKS354005-YD-T

Granville-PHillips真空計 275529-EU

1.型號：275529-EU

2 MKS390411-0-YE-T真空計GRANVILLE-PHILLIPS

3.非實價，議價！英福康真空計MKS354005-YD-T離子對撞壓力計MKS
INFICON BAG302 B-A 型熱陰極電離真空計(中高真空計)

INFICON 單臺 Bayard-Alpert 熱離子計 BAG302 的測量范圍從 1.3 × 10-9 到 6.7×10-2 mbar（1 × 10-9 到 5 × 10-2 Torr）。緊湊型一體化熱離子計BAG302提供易于更換的雙燈絲傳感器，內(nèi)置OLED顯示屏，設定點繼電器和對數(shù)線性模擬輸出以及集成的RS485數(shù)字接口，可提高集成靈活性。這些功能與堅固的設計相結合，使BAG302成為一種經(jīng)濟實惠且可重復的過程，可作為自己的壓力測量儀器的基礎，并提供高價值/低擁有成本的選擇。

INFICON 的 BAG302 熱離子計是下面列出的 MKS/GP 部件號的直接直接替代品。這還包括較舊的傳統(tǒng) MKS 354 微離子®模塊。

MKS系列部件號顯示單位輸出法蘭型燈絲 INFICON部件號

355 微離子®
355400-0-碼不托模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050

355 微離子®
355400-0-葉-T 不托模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051

355 微離子® 355400-0-YK-T 不托模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052

355 微離子® 355400-0-YF-T 不托模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

355 微離子® 355400-0-YG-T 不托模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

355 微離子®
355400-0-碼不毫巴模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050

355 微離子®
355400-0-葉-T 不毫巴模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050

355 微離子® 355400-0-YK-T 不毫巴模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052

355 微離子® 355400-0-YF-T 不毫巴模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-052

355 微離子® 355400-0-YG-T 不毫巴模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

355 微離子®
355400-0-碼不帕斯卡模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050

355 微離子®
355400-0-葉-T 不帕斯卡模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051

355 微離子® 355400-0-YK-T 不帕斯卡模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052

355 微離子® 355400-0-YF-T 不帕斯卡模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

355 微離子® 355400-0-YG-T 不帕斯卡模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

355 微離子®
355600-0-碼發(fā)光二極管托模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050

355 微離子®
355600-0-葉-T 發(fā)光二極管托模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050

355 微離子® 355600-0-YK-T 發(fā)光二極管托模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052

355 微離子® 355600-0-YF-T 發(fā)光二極管托模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-052

355 微離子® 355600-0-YG-T 發(fā)光二極管托模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

355 微離子®
355600-0-碼發(fā)光二極管毫巴模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050

355 微離子®
355600-0-葉-T 發(fā)光二極管毫巴模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051

355 微離子® 355600-0-YK-T 發(fā)光二極管毫巴模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052

355 微離子® 355600-0-YF-T 發(fā)光二極管毫巴模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

355 微離子® 355600-0-YG-T 發(fā)光二極管毫巴模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

355 微離子®
355600-0-碼發(fā)光二極管帕斯卡模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050

355 微離子®
355600-0-葉-T 發(fā)光二極管帕斯卡模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051

355 微離子® 355600-0-YK-T 發(fā)光二極管帕斯卡模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052

355 微離子® 355600-0-YF-T 發(fā)光二極管帕斯卡模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

355 微離子® 355600-0-YG-T 發(fā)光二極管帕斯卡模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

355 微離子®
355410-0-碼不托 RS485 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050

355 微離子®
355410-0-葉-T 不托 RS485 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051

355 微離子® 355410-0-YK-T 不托 RS485 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052

355 微離子® 355410-0-YF-T 不托 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

355 微離子® 355410-0-YG-T 不托 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

354 微離子®
354001-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不托模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050

354 微離子®
354001-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不托模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051

354 微離子® 354001-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不托模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052

354 微離子® 354001-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不托模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

354 微離子® 354001-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不托模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

354 微離子®
354001-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不毫巴模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050

354 微離子®
354001-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不毫巴模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051

354 微離子® 354001-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不毫巴模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052

354 微離子® 354001-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不毫巴模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

354 微離子® 354001-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不毫巴模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

354 微離子®
354001-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不帕斯卡模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050

354 微離子®
354001-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不帕斯卡模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051

354 微離子® 354001-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不帕斯卡模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052

354 微離子® 354001-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不帕斯卡模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

354 微離子® 354001-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不帕斯卡模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

354 微離子®
354002-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管托模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050

354 微離子®
354002-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管托模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051

354 微離子® 354002-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管托模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052

354 微離子® 354002-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管托模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

354 微離子® 354002-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管托模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

354 微離子®
354002-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管毫巴模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050

354 微離子®
354002-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管毫巴模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051

354 微離子® 354002-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管毫巴模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052

354 微離子® 354002-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管毫巴模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

354 微離子® 354002-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管毫巴模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

354 微離子®
354002-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管帕斯卡模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050

354 微離子®
354002-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管帕斯卡模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051

354 微離子® 354002-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管帕斯卡模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052

354 微離子® 354002-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管帕斯卡模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

354 微離子® 354002-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）發(fā)光二極管帕斯卡模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

354 微離子®
354005-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不托 RS485 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050

354 微離子®
354005-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不托 RS485 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051

354 微離子® 354005-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不托 RS485 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052

354 微離子® 354005-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不托 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

354 微離子® 354005-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不托 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

354 微離子®
354005-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不毫巴 RS485 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050

354 微離子®
354005-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不毫巴 RS485 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051

354 微離子® 354005-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不毫巴 RS485 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052

354 微離子® 354005-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不毫巴 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

354 微離子® 354005-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不毫巴 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

354 微離子®
354005-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不帕斯卡 RS485 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050

354 微離子®
354005-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不帕斯卡 RS485 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051

354 微離子® 354005-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不帕斯卡 RS485 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052

354 微離子® 354005-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不帕斯卡 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053

354 微離子® 354005-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品）不帕斯卡 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054

進口CWFG00403 光刻膠過濾器 WGGB06S02濾芯

ASML是 Advanced Semiconductor Material Lithography的簡稱，中文名稱為阿斯麥（中國大陸）、艾司摩爾（中國臺灣）。艾司摩爾（ASML）為半導體設備供貨商，成立于1984年，是從荷商飛利浦分割出來獨立的半導體設備公司，總部設立于荷蘭的Veldhoven。

ASML為半導體生產(chǎn)商提供光刻機及相關服務，TWINSCAN系列，應用最為廣泛的高端光刻機型。目前全球絕大多數(shù)半導體生產(chǎn)廠商，都向ASML采購TWINSCAN機型，例如英特爾（Inb），三星（Samsung），海力士（Hynix），臺積電（TSMC），中芯國際（SMIC）等。

ASML的產(chǎn)品線分為PAS系列，AT系列，XT系列和NXT系列，其中PAS系列光源為高壓汞燈光源，現(xiàn)已停產(chǎn)，AT系列屬于老型號，多數(shù)已經(jīng)停產(chǎn)。市場上主力機種是XT系列以及NXT系列，為ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的機型，分為干式和沉浸式兩種，而NXT系列則是現(xiàn)在主推的高端機型，全部為沉浸式。

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深圳市天鉉真空技術有限公司

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MKS649B0C121T21CAVR壓力流量控制器

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