產(chǎn)品詳情
CPCLS13.01美國(guó)進(jìn)口
其中同步采樣法和頻率重心法使用為廣泛。同步采樣法顧名思義,就是使采樣頻率與基波頻率同步改變。該方法從源頭上保證數(shù)據(jù)的采樣頻率為基波頻率的整數(shù)倍,如IEC61000-4-7標(biāo)準(zhǔn)就規(guī)定50Hz使用10倍基波采樣率,采樣數(shù)據(jù)經(jīng)離散傅里葉變換即可得到各次諧波分量。同步采樣常用硬件PLL實(shí)現(xiàn),需要實(shí)時(shí)調(diào)整采樣頻率,頻率的鎖定需要時(shí)間,受限于濾波器及相關(guān)器件,很難做到很寬的頻域,也很難保證頻譜特別豐富時(shí)的準(zhǔn)確性。
水和能源是這個(gè)千年的主題。
本次環(huán)境海水淡化會(huì)議將致力于以可承受的成本和經(jīng)濟(jì)的能源需求為所有人提供淡水。隨著自然資源的有限和枯竭,海水淡化可以補(bǔ)充可持續(xù)發(fā)展所需的一些嚴(yán)重缺乏的水量。
將討論它在水循環(huán)中的位置。會(huì)議將概述海水淡化技術(shù)的發(fā)展、成本和應(yīng)用范圍,包括社會(huì)經(jīng)濟(jì)和環(huán)境問(wèn)題。
它將匯集來(lái)自水公司、工業(yè)、部門(mén)、咨詢公司、研究所和大學(xué)的研究科學(xué)家、決策者、經(jīng)理、設(shè)計(jì)工程師和操作員。
在這個(gè)蓬勃發(fā)展的市場(chǎng)中,工業(yè)、研究和決策的地位將得到強(qiáng)調(diào)。
為什么以及如何將海水淡化納入或區(qū)域水管理計(jì)劃,確保社會(huì)經(jīng)濟(jì)和環(huán)境效益,將是會(huì)議的焦點(diǎn)。
丹麥丹佛斯DANFOSS
Danfoss 丹佛斯 柱塞泵 APP1.5 180B3043
Danfoss 丹佛斯 柱塞泵 APP3.5 180B3032
Danfoss 丹佛斯 柱塞泵 APP0.6 180B3048
Danfoss 丹佛斯 柱塞泵 APP2.2 180B3045
Danfoss 丹佛斯 柱塞泵 APP8.2 180B3008
Danfoss 丹佛斯 柱塞泵_APPW8.2_83bar_138.5L_180B3078
柱塞杠套件\APP21-46\180B4166
柱塞套件\APP261500&APP30-46\180B4199
機(jī)械密封\APP21-46180B4631
沖洗閥套件\APP21-46&APPWHC15-30\180B4170
斜盤(pán)套件\APP21\1200&APP26\1500180B4167
閥板套件\APP21-26180B4165
接口法蘭套件\APP21-46&APPWHC15-30\180B4633
保持球套件\APP21-26&APP301500\180B4164
密封套件\APP21-46180B4632不含機(jī)械密封
CPCLS13.01美國(guó)進(jìn)口
從發(fā)展趨勢(shì)來(lái)看,紅外熱像檢測(cè)技術(shù)將會(huì)成為器無(wú)損檢測(cè)的常規(guī)檢測(cè)手段;從維修工作的實(shí)際效果來(lái)看,采用紅外熱像技術(shù)檢測(cè)復(fù)合材料蜂窩內(nèi)部積水的方法效率高、結(jié)果準(zhǔn)確。原理及概況物理原理溫度在零度以上的物體均能產(chǎn)生電磁波,電磁波波長(zhǎng)范圍與物體的溫度相對(duì)應(yīng)。如圖1所示為不同溫度下黑體的光譜輻射量,圖中波長(zhǎng)與輻射量是與溫度相關(guān)的函數(shù)關(guān)系。熱輻射與其它形式的電磁波一樣,在物體表面時(shí)會(huì)發(fā)生反射、透射和吸收。圖1不同溫度下黑體的光譜輻射量檢測(cè)原理材料或結(jié)構(gòu)中的缺陷,如復(fù)合材料或其結(jié)構(gòu)件中的分層、脫粘、裂紋等,其導(dǎo)熱特性與材料本身存在明顯差異。
穆格MOOG伺服閥 D661-6393C
穆格MOOG伺服閥 D661-4770
穆格MOOG伺服閥 D662-4194/D061-9420
穆格MOOG伺服閥 D662-4141/D062-9320
MOOG 穆格伺服閥 G761-3033B
MOOG 穆格伺服閥 G761-3034B
MOOG 穆格伺服閥 G761-3023B
MOOG 穆格伺服閥 G761-3002B
EMG 伺服閥 LLS 675/02
EMG 伺服閥 SV1-10/32/315-6
EMG 伺服閥 SV1-10/8/315/6SV1-10/16/120/6
EMG 伺服閥 SV1-10/48/315-6
EMG 伺服閥 SV1-10/16/315-6
EMG傳感器KLW 300.012
EMG 位置傳感器 KLW 150.012
EMG 傳感器 KLW 225.012
EMG 位置傳感器 KLW 360.012
EMG 位置傳感器 KLW150.012
EMG 位置傳感器 KLW225.012
EMG 位置傳感器 KLW300.012
EMG 位置傳感器 KLW450.012
EMG 位置傳感器 KLW600.012
EMG 伺服閥 SV1-10/8/315/6
EMG 伺服閥 SV1-10/48/315/6
EMG 伺服閥 SV1-10/32/100/6
EMG 伺服閥 SV1-10/8/120/6
EMG 伺服閥 SV1-10/4/120/6
EMG 伺服閥 SV2-16/125/315/1/1/01
EMG 濾芯 HFE400/10H
EMG 位移傳感器 KLM300/012
EMG 對(duì)中整流器 LLS675/02
EMG 光 LIC1075/11
EMG 電路處理板 EVK2.12
EMG 電源 BK11.02
EMG 處理器 MCU16.1
EMG VKI3-11-200/1600/750/M/E/W/A/
EMG 對(duì)中光源 LID2-800.2C
EMG 對(duì)中光源 LID2-800.2C
EMG 電動(dòng)執(zhí)行器 DMC2000-B3-160-SMC002-DCS
EMG 位移傳感器 KLW300.012
EMG 電路板 LIC2.01.1
EMG 推動(dòng)桿EB1250-60IIW5T
EMG 推動(dòng)桿EB800-60II
EMG 推動(dòng)桿EB220-50/2IIW5T
EMG 推動(dòng)桿EB300-50IIW5T
EMG 發(fā)射光源L1C770/01-24VDC/3.0A
EMG 制動(dòng)器ED121/6 2LL5 551-1
EMG 光電探頭EVK2-CP/800.71L/R
EMG 放大器EVB03/235351
EMG 對(duì)中控制SMI 2.11.1/2358100134300
EMG 電路板SMI 2.11.3/235990
EMG 泵DMC 249-A-40
EMG 泵DMC 249-A-50
EMG 泵DMC 30 A-80
EMG 泵DPMC 59-V-8
EMG 位置傳感器LWH-0300
EMG 電動(dòng)執(zhí)行器DMCR59-B1-10
EMG 伺服閥SV1-10/32/315/6
EMG 伺服閥SV1-10/32/315/8
EMG 伺服閥SV1-10/48/315/8
EMG 伺服閥SV2-10/64/210/6
EMG對(duì)中光源LID2-800.2C
EMG KLW300-012
CPC LS14.02
KLW 360.012
EPC EVM2-CP/1300.71/L/R
EPC CCDPro 5000
CPC LS13.01
EMG光電式測(cè)量傳器 EVM2-CP/1850 71/L/R
EMG高頻光源 LLS875/01
EMG數(shù)字式控制器 ICON SE+VS/AE1054
EMG適配器 EVB03.01
EEV 磁控管 MG5223
EEV 磁控管 MG5436
EEV 磁控管 MG5424
EEV 磁控管 MG5223F
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