產(chǎn)品詳情
Harrick Plasma 等離子清洗機真空泵配置:
>1.4 1.4 m3/hr (0.83 ft3/min) 極限壓力在200 mTorr (0.27 mbar)以下
真空泵型號:
經(jīng)濟型 PDC-VPE (115V); PDC-VPE-2 (230V)
穩(wěn)定型 PDC-VP (115V ) ; PDC-VP-2 (230V)
工藝氣體為氧氣,請選擇真空泵型號
經(jīng)濟型 PDC-OPE (115V); PDC-OPE-2 (230V)
穩(wěn)定型 PDC-OPD (115V); PDC-OPD-2(230V)
對于其他腐蝕性或者反應性氣體,請咨詢 German First-Nano System (HK)Limited
Harrick Plasma 具有悠久歷史的專業(yè)光學光譜儀器的設計和制造。自1969開始,Harrick Plasma 技術L先,行業(yè)享有盛名。該公司的創(chuàng)始人N. J. Harrick博士,開創(chuàng)了內反射光譜和成為該技術的主要開發(fā)者。 $nHarrick Plasma 研發(fā)了三十多年前的*臺臺式研究等離子體器件。現(xiàn)在Harrick Plasma 儀器在許多研究實驗室是廣泛應用。
等離子清洗機真空泵
http://www.first-nano.com/SonList-1417828.html
http://www.chem17.com/st326752/erlist_1417828.html