產(chǎn)品詳情
儀器簡(jiǎn)介：
等離子表面處理機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。等離子表面處理機(jī)外接一臺(tái)真空泵，工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被徹底地清洗掉，同時(shí)污染物被真空泵抽走，其清洗程度達(dá)到分子級(jí)。
等離子表面處理機(jī)除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。對(duì)某些有特殊用途的材料，在超清洗過(guò)程中等離子清洗器的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性，并可消毒和殺菌。等離子清洗器廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。
儀器應(yīng)用：
1. 高分子材料表面修飾。
2. 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
3. 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。
4. 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
5. 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。
6. 清洗生物芯片、微流控芯片。
7. 清洗沉積凝膠的基片。
8. 清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
9. 牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。
10. 改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
等離子清洗機(jī)
http://www.first-nano.com/ParentList-1499987.html
http://www.chem17.com/st326752/list_1499987.html
等離子表面處理機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。等離子表面處理機(jī)外接一臺(tái)真空泵，工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被徹底地清洗掉，同時(shí)污染物被真空泵抽走，其清洗程度達(dá)到分子級(jí)。
等離子表面處理機(jī)除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。對(duì)某些有特殊用途的材料，在超清洗過(guò)程中等離子清洗器的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性，并可消毒和殺菌。等離子清洗器廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。
儀器應(yīng)用：
1. 高分子材料表面修飾。
2. 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
3. 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。
4. 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
5. 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。
6. 清洗生物芯片、微流控芯片。
7. 清洗沉積凝膠的基片。
8. 清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
9. 牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。
10. 改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
等離子清洗機(jī)
http://www.first-nano.com/ParentList-1499987.html
http://www.chem17.com/st326752/list_1499987.html
